[發明專利]一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件

有效

• 申請號: 202010634138.2
• 申請日: 2020-07-02
• 公開（公告）號: CN111549370B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 康亮;康小明;趙淑鑫
• 申請（專利權）人: 天水華洋電子科技股份有限公司
• 主分類號: C25D21/10
• 分類號: C25D21/10;C25D17/00
• 代理公司: 北京高航知識產權代理有限公司 11530
• 代理人: 喬浩剛

本發明涉及金屬鍍覆技術領域，且公開了一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件，包括池壁和固定架，所述池壁的內部活動連接有攪拌機構，所述攪拌機構的左側固定連接有轉動盤一，所述轉動盤一的外部滑動連接有傳動帶。該鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件，電動機轉動時，攪拌機構也會轉動，因為攪拌機構的外部固定連接有斜形扇葉，所以斜形扇葉會使得電鍍池底部的電鍍液轉動，從而達到了電鍍池內部成分均勻的效果。轉動盤一可以帶動轉動盤二運動，進一步使得齒輪一帶動齒輪二轉動，從而使得橫桿左右運動，由于橫桿與裝物筐活動連接，所以可以使得裝物筐左右搖擺，使得金屬與電解液接觸的更加充分，從而達到了金屬表面與電鍍液接觸充分的效果。

技術領域

本發明涉及金屬鍍覆技術領域，具體為一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件。

背景技術

金屬鍍覆主要有電鍍、真空鍍膜機和噴鍍這三種，其中電鍍是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或者合金的過程，利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用。

電鍍需要一個向電鍍槽供電的抵押大電流電源以及電鍍液、待鍍零件和陽極構成的電解裝置，電鍍的過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經電極反應還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉淀的過程。在傳統的金屬電鍍時，把需要電鍍的金屬固定放在電鍍液內部，這樣會使得金屬表面與電鍍液的接觸不均勻，容易造成鍍層厚度不同的效果，而且有些電鍍需要很長的時間，電鍍液沉淀會影響鍍層質量，因此如何使得金屬表面與電鍍液接觸充分和使得電鍍池內部成分均勻成為了一個重要的問題，因此我們提出了一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件。

發明內容

(一)解決的技術問題

針對現有技術的不足，本發明提供了一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件，具備金屬表面與電鍍液接觸充分、電鍍池內部成分均勻的優點，解決了金屬表面與電鍍液的接觸不均勻，容易造成鍍層厚度不同的效果，而且有些電鍍需要很長的時間，電鍍液沉淀會影響鍍層質量的問題。

(二)技術方案

為實現上述金屬表面與電鍍液接觸充分、電鍍池內部成分均勻的目的，本發明提供如下技術方案：一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件，包括池壁和固定架，所述池壁的內部活動連接有攪拌機構，所述攪拌機構的左側固定連接有轉動盤一，所述轉動盤一的外部滑動連接有傳動帶，所述轉動盤一的左側固定連接有電動機，所述傳動帶遠離轉動盤一的一側固定連接有轉動盤二，所述轉動盤二的左側固定連接有齒輪一，所述齒輪一嚙合連接有齒輪二，所述齒輪二的內部活動連接有固定軸，所述齒輪二的背面固定連接有固定桿，所述固定桿遠離齒輪二的一側固定連接有橫桿，所述固定架的底部固定連接有鐵鏈，所述鐵鏈遠離固定架的一側活動連接有筐帶，所述筐帶遠離鐵鏈的一側固定連接有裝物筐。

優選的，所述固定架在池壁的正上方。

優選的，所述攪拌機構的外部固定連接有斜形扇葉。

優選的，所述轉動盤一和轉動盤二通過傳動帶傳動連接。

優選的，所述橫桿是一種折疊支架，所述橫桿的右側活動連接在裝物筐的左側。

優選的，所述裝物筐的外部開設有大量的方形孔。

(三)有益效果

與現有技術相比，本發明提供了一種鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件，具備以下有益效果：

1、該鍍層均勻的電鍍池帶攪拌組件，通過電動機和轉動盤一、攪拌機構的配合使用，因為電動機的右側固定連接有轉動盤一、轉動盤一的右側固定連接有攪拌機構，所以電動機轉動時，攪拌機構也會轉動，又因為攪拌機構的外部固定連接有斜形扇葉，所以斜形扇葉會使得電鍍池底部的電鍍液轉動，從而達到了電鍍池內部成分均勻的效果。