[發明專利]電容系統及其制備方法

在審

• 申請號: 202010631458.2
• 申請日: 2020-07-03
• 公開（公告）號: CN111825053A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 但強;陶澤;李楊
• 申請（專利權）人: 瑞聲科技（南京）有限公司
• 主分類號: B81B5/00
• 分類號: B81B5/00;B81B7/00;B81C1/00
• 代理公司: 深圳中細軟知識產權代理有限公司 44528
• 代理人: 彭佳偉

1.一種電容系統，其特征在于，包括依次層疊的第一晶圓、介質層、第一靜電極層、動電極層和第二晶圓；

所述動電極層包括設置在所述第一靜電極層上的動電極塊，所述動電極塊與所述第一靜電極層在豎直方向上分離，從而使得所述動電極塊可相對于所述第一靜電極層在水平方向上來回運動；

所述第一靜電極層設有第一絕緣空腔，所述第一絕緣空腔位于所述動電極塊的下方，所述第一絕緣空腔將所述第一靜電極層在水平方向上分隔；或者，所述動電極塊上設有絕緣空腔，所述絕緣空腔將所述動電極塊在水平方向上分隔。

2.根據權利要求1所述的電容系統，其特征在于，所述動電極塊包括層疊在所述第一靜電極層上的第一長塊以及層疊在所述第一長塊上的短塊，所述第一長塊的寬度大于所述短塊的寬度。

3.根據權利要求2所述的電容系統，其特征在于，所述短塊位于在所述第一長塊的寬度方向的中間區域的上方。

4.根據權利要求2所述的電容系統，其特征在于，所述動電極塊還包括層疊在所述短塊上的第二長塊，所述第二長塊的寬度大于所述短塊的寬度。

5.根據權利要求4所述的電容系統，其特征在于，所述短塊位于所述第二長塊的寬度方向的中間區域的下方。

6.根據權利要求4所述的電容系統，其特征在于，所述第一長塊的寬度和所述第二長塊的寬度相同。

7.根據權利要求1所述的電容系統，其特征在于，所述動電極層上設有電隔離槽，所述動電極塊設置在所述電隔離槽內，并且所述電隔離槽和所述動電極塊之間填充有所述絕緣材料。

8.根據權利要求7所述的電容系統，其特征在于，所述動電極塊在長度方向上具有相對的第一端和第二端，所述第一端和所述第二端均設置在所述電隔離槽內。

9.根據權利要求8所述的電容系統，其特征在于，所述第一端的寬度和所述第二端的寬度均大于所述動電極塊的中間的寬度。

10.根據權利要求1所述的電容系統，其特征在于，所述第一絕緣空腔內設有絕緣材料或空氣；或者，所述絕緣空腔內設有絕緣材料或空氣。

11.根據權利要求1所述的電容系統，其特征在于，所述第一絕緣空腔設置在所述動電極塊的寬度方向的中間區域的下方；或者，所述絕緣空腔設置在所述動電極塊的寬度方向的中間區域。

12.根據權利要求1－11中任意一項所述的電容系統，其特征在于，所述電容系統還包括設置在所述動電極層和所述第二晶圓之間的第二靜電極層。

13.根據權利要求12所述的電容系統，其特征在于，所述第一靜電極層設有第一絕緣空腔時，所述第二靜電極層設有第二絕緣空腔，所述第二絕緣空腔位于所述動電極塊的上方，所述第二絕緣空腔用于將所述第二靜電極層在水平方向上分隔。

14.根據權利要求13所述的電容系統，其特征在于，所述第二絕緣空腔內設有絕緣材料或空氣；或者，所述第二絕緣空腔設置在所述動電極塊的寬度方向的中間區域的上方。