[發(fā)明專利]一種抗菌濕巾保濕液及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010630095.0 | 申請日： | 2020-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN111821234A | 公開（公告）日： | 2020-10-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李瑞銘 | 申請（專利權(quán)）人： | 浙江新遠實業(yè)有限公司 |
| 主分類號： | A61K8/9789 | 分類號： | A61K8/9789;A61K8/41;A61K8/02;A61Q19/10;A61Q19/00;A61Q17/00;A61P31/04;A61P31/10;B01F7/00;B01F7/16;B01F15/06 |
| 代理公司： | 杭州伍博專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33309 | 代理人： | 張偉 |
| 地址： | 311500 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 抗菌 保濕 及其 制備 方法 | ||
1.一種抗菌濕巾保濕液，其特征是，按重量百分比計，包括以下配方原料：0-0.2份野白菊純露，0-0.05份苦參提取物，2-4份丙二醇，0.3-0.8份椰油酰胺丙基甜菜堿-35，0.01-0.05份殺菌劑，0.1-0.3份柔順劑，0.03-0.05份薰衣草提取物，90-100份純水，所述殺菌劑包括苯扎溴銨或雙十烷基二甲基氯化銨的一種或多種，所述柔順劑包括氨基聚硅氧烷或環(huán)氧-聚醚類改性有機硅的一種或多種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗菌濕巾保濕液，其特征是，配方原料包括：0-0.15份野白菊純露，0-0.03份苦參提取物，2.5-3.5份丙二醇，0.7-0.8份椰油酰胺丙基甜菜堿-35，0.03-0.04份殺菌劑，0.2-0.3份柔順劑，0.03-0.04份薰衣草提取物，95-100份純水。
3.一種抗菌濕巾保濕液制備方法，其特征是，包括以下步驟：
步驟一，分別從野白菊、苦參和薰衣草中制得野白菊純露、苦參提取物和薰衣草提取物；
步驟二，分別將野白菊純露、苦參提取物、丙二醇、椰油酰胺丙基甜菜堿-35、殺菌劑、柔順劑、薰衣草提取物和純水按比例加入制液設(shè)備的各個自動供料腔中備好待用；
步驟三，先往反應(yīng)箱中泵入純水，之后自動供料裝置工作，往反應(yīng)箱中加入椰油酰胺丙基甜菜堿-35和柔順劑與純水相溶，此時攪拌裝置工作，對混合液攪拌10-30分鐘至椰油酰胺丙基甜菜堿-35和柔順劑完全溶解；
步驟四，攪拌完畢之后自動供料裝置繼續(xù)工作，往反應(yīng)箱中加入丙二醇，之后加熱裝置啟動，對反應(yīng)箱內(nèi)的溶液進行加熱，加熱至60-70度；
步驟五，加熱完畢之后自動供料裝置繼續(xù)工作，往反應(yīng)箱中加入苦參提取物，此時攪拌裝置繼續(xù)工作，攪拌10-30分鐘至苦參提取物完全溶解，攪拌完畢之后冷卻裝置啟動，對反應(yīng)箱內(nèi)的溶液進行降溫，降至25-35度；
步驟六，降溫完畢之后自動供料裝置繼續(xù)工作，往反應(yīng)箱中加入殺菌劑、野白菊純露和薰衣草提取物，此時攪拌裝置繼續(xù)工作，攪拌10-30分鐘至殺菌劑、野白菊純露和薰衣草提取物完全溶解，抗菌濕巾保濕液制作完成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種抗菌濕巾保濕液制備方法，其特征是，步驟四中加熱裝置的初始加熱溫度為90-100度，當溫度傳感器檢測到溶液的溫度達到50-60度時，加熱裝置的加熱溫度再變?yōu)?0-70度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種抗菌濕巾保濕液制備方法，其特征是，所述制液設(shè)備包括反應(yīng)釜本體(5)，所述反應(yīng)釜本體(5)的上方固定有填料箱(1)，所述填料箱(1)的頂面上設(shè)置有若干個儲料槽體(6)，所述填料箱(1)的內(nèi)部安裝有集流塊(9)，所述集流塊(9)上設(shè)有若干個與儲料槽體(6)相匹配的進料孔(8)，所述集流塊(9)通過進料孔(8)和儲料槽體(6)管道連接，所述集流塊(9)的底部安裝有與進料孔(8)相連通的下料管(2)，所述下料管(2)貫穿填料箱(1)的底面和反應(yīng)釜本體(5)的頂面置于反應(yīng)釜本體(5)內(nèi)部，所述下料管(2)的底部安裝有引流塊(10)，所述引流塊(10)上轉(zhuǎn)動連接有攪拌組件(11)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種抗菌濕巾保濕液制備方法，其特征是，所述下料管(2)包括內(nèi)管(30)和外管(31)，所述內(nèi)管(30)和外管(31)均固定在集流塊(9)的下端面上，所述外管(31)套設(shè)在內(nèi)管(30)的外側(cè)，所述集流塊(9)內(nèi)部設(shè)有集流塊空腔(35)，所述集流塊空腔(35)的底面上設(shè)有與內(nèi)管(30)相匹配的內(nèi)管出料孔(32)和若干個與外管(31)相匹配的外管出料孔(33)，所述外管出料孔(33)均勻分布在內(nèi)管出料孔(32)的外側(cè)，所述內(nèi)管(30)固定在內(nèi)管出料孔(32)的下方且與內(nèi)管出料孔(32)相連通，所述外管出料孔(33)置于內(nèi)管(30)和外管(31)之間且與內(nèi)管(30)和外管(31)之間的區(qū)域相連通。
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