[發(fā)明專利]一種具備紅外激光兼容偽裝功能的智能變色柔性器件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010628880.2 | 申請日: | 2020-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN111752062A | 公開(公告)日: | 2020-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王龍;汪劉應(yīng);劉顧;唐修檢;袁曉靜;田欣利;許可俊 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍火箭軍工程大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/155 | 分類號: | G02F1/155;G02F1/1516;G02F1/153;G02F1/01;G02F1/00 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 劉長春 |
| 地址: | 710025 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具備 紅外 激光 兼容 偽裝 功能 智能 變色 柔性 器件 | ||
本發(fā)明涉及一種具備紅外激光兼容偽裝功能的智能變色柔性器件,包括:缺陷態(tài)光子晶體層和設(shè)置在其上的柔性致變色結(jié)構(gòu),其中,缺陷態(tài)光子晶體層的結(jié)構(gòu)為B[AB]nB[AB]nA中心摻雜態(tài)光子晶體膜系結(jié)構(gòu),其中,n表示A膜層和B膜層交替排列的周期次數(shù),2≤n≤4;A膜層與B膜層滿足以下條件:nAdA=2650±25nm、nBdB=2650±25nm、nAdA+nBdB=5300nm、nA<nB,其中,nA表示A膜層的折射率,nB表示B膜層的折射率,dA表示A膜層的厚度,dB表示B膜層的厚度。本發(fā)明的智能變色柔性器件,在柔性致變色結(jié)構(gòu)的下表面設(shè)置有缺陷態(tài)光子晶體層,發(fā)揮了致變色材料與超構(gòu)材料的協(xié)同作用,形成優(yōu)勢互補(bǔ)的光電器件,可以實(shí)現(xiàn)紅外、激光、可見光兼容隱身功能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電器件技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種具備紅外激光兼容偽裝功能的智能變色柔性器件。
背景技術(shù)
隱身技術(shù)是躲避摧毀與達(dá)成突襲的重要手段,成為世界各國武器裝備高新技術(shù)之一。當(dāng)前武器裝備的精確制導(dǎo)與探測技術(shù)主要采用雷達(dá)、紅外、激光、高光譜等手段,其中紅外、激光、可見光都屬于光學(xué)范疇。然而,現(xiàn)有隱身技術(shù)大都只對單一光波波段探測手段有效,卻無法同時(shí)應(yīng)對激光探測、紅外探測、光譜探測等多種手段的聯(lián)合探測。此外,現(xiàn)有的隱身技術(shù)大都屬于靜態(tài)偽裝,在特定的戰(zhàn)場背景環(huán)境下能起到較好的隱藏偽裝效果,但又無法在裝備機(jī)動(dòng)過程中適應(yīng)差異化的多域復(fù)雜背景變化,因此靜態(tài)隱身技術(shù)已逐漸不能滿足未來戰(zhàn)場動(dòng)態(tài)偽裝需求。
由于當(dāng)前多模復(fù)合制導(dǎo)技術(shù)和探測手段,尤其是以激光和紅外復(fù)合探測為主,而現(xiàn)在兼容型隱身技術(shù)研究范疇的難點(diǎn)之一就是無法解決紅外隱身與激光隱身的兼容性。鑒于此,世界各軍事強(qiáng)國都在熱衷于“變色龍”模式的自適應(yīng)隱身技術(shù)研究,電致變色材料、光致變色材料、熱致變色材料等智能材料及器件被不斷研發(fā)出來,但目前研發(fā)出的材料還存在紅外調(diào)控能力差、變色功能單一等缺點(diǎn)。
因此,提供一種具備紅外、可見光與激光兼容型自適應(yīng)隱身功能的光電器件,具有非常重要的工程實(shí)用價(jià)值。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題,本發(fā)明提供了一種具備紅外激光兼容偽裝功能的智能變色柔性器件。本發(fā)明要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
本發(fā)明提供了一種具備紅外激光兼容偽裝功能的智能變色柔性器件,包括:缺陷態(tài)光子晶體層和設(shè)置在其上的柔性致變色結(jié)構(gòu),其中,
所述缺陷態(tài)光子晶體層的結(jié)構(gòu)為B[AB]nB[AB]nA中心摻雜態(tài)光子晶體膜系結(jié)構(gòu),其中,n表示A膜層和B膜層交替排列的周期次數(shù),2≤n≤4;
所述A膜層與所述B膜層滿足以下條件:
其中,nA表示A膜層的折射率,nB表示B膜層的折射率,dA表示A膜層的厚度,dB表示B膜層的厚度。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,所述柔性致變色結(jié)構(gòu)為柔性電致變色器件或光致變色膜結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,所述A膜層和所述B膜層的材料為ZnS、ZnSe、PbTe、Al2O3、SiO2、Si3N4、MgF2或PbF2光學(xué)薄膜材料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國人民解放軍火箭軍工程大學(xué),未經(jīng)中國人民解放軍火箭軍工程大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010628880.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





