[發(fā)明專利]基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010626581.5 | 申請日： | 2020-07-01 |
| 公開（公告）號： | CN111735776A | 公開（公告）日： | 2020-10-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉曉;孫曉兵;黃紅蓮;提汝芳 | 申請（專利權）人： | 中國科學院合肥物質科學研究院 |
| 主分類號： | G01N21/21 | 分類號： | G01N21/21;G01N21/31;G01N21/01 |
| 代理公司： | 合肥市上嘉專利代理事務所(普通合伙) 34125 | 代理人： | 郭華俊 |
| 地址： | 230031 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 微納法布里 諧振腔 偏振 光譜 成像 裝置 | ||
1.一種基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，包括：
沿入射光方向依次設置的第一光學鏡組、電控檢偏模塊、微納法布里-珀羅諧振腔陣列、第二光學鏡組和探測器，及數(shù)據(jù)采集控制和處理系統(tǒng)；
所述第一光學鏡組，用于收集二維空間目標發(fā)出的光作為入射光，其中，所述入射光為不完全偏振光；
所述電控檢偏模塊，用于將所述不完全偏振光檢偏為不同檢偏方向的線偏振光；
所述微納法布里-珀羅諧振腔陣列，用于獲得每個方向的所述線偏振光的多個波段的光譜；
第二光學鏡組，用于各波段所述光譜分別匯聚至所述探測器；
所述數(shù)據(jù)采集控制和處理系統(tǒng)，用于控制所述電控檢偏模塊獲得不同檢偏方向，且控制所述探測器快照所述待探測光譜得到每個偏振方向的高光譜數(shù)據(jù)立方體，和處理所述高光譜數(shù)據(jù)立方體。
2.根據(jù)權利要求1所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述第一光學鏡組包括望遠物鏡、顯微物鏡和普通物鏡之一。
3.根據(jù)權利要求1所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述電控檢偏模塊包括第一偏振片和第一電機；
所述第一電機控制所述第一偏振片的旋轉以獲得不同檢偏方向的偏振片；
所述第一電機的輸入端連接所述數(shù)據(jù)采集控制和處理系統(tǒng)的輸出端。
4.根據(jù)權利要求3所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述電控檢偏模塊還包括退偏器；
所述退偏器沿入射光的方向設置，且設置在所述第一偏振片和所述微納法布里-珀羅諧振腔陣列之間。
5.根據(jù)權利要求1所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述微納法布里-珀羅諧振腔陣列包括多個法布里-珀羅諧振腔單元；
各所述法布里-珀羅諧振腔單元的兩相對設置的反射件之間的距離不一樣。
6.根據(jù)權利要求1所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述第二光學鏡組為微透鏡陣列；
所述微透鏡陣列與所述微納法布里-珀羅諧振腔陣列一一對應設置。
7.根據(jù)權利要求1所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述探測器為SCMOS傳感器。
8.根據(jù)權利要求1所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述不同檢偏方向包括0°檢偏方向、60°檢偏方向和120°檢偏方向。
9.根據(jù)權利要求1-8任一項所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述偏振高光譜成像裝置還包括：
沿入射光方向設置的第一帶通濾波器；
所述第一帶通濾波器設置在所述第一光學鏡組遠離所述電控檢偏模塊的一側。
10.根據(jù)權利要求9所述的基于微納法布里-珀羅諧振腔的偏振高光譜成像裝置，其特征在于，所述第一帶通濾波器包括高通濾光片和近紅外濾光片。
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