[發(fā)明專利]一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010626053.X
• 申請日: 2020-07-01
• 公開（公告）號: CN111780402B
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設計）人: 張晶
• 申請（專利權）人: 寧波晶成機械制造有限公司
• 主分類號: F24H1/16
• 分類號: F24H1/16;F24H9/02;F24H9/18;F23D14/02;F23D14/62;C23C26/00
• 代理公司: 北京棧橋知識產權代理事務所(普通合伙) 11670
• 代理人: 余柯薇

1.一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，包括燃燒室主體(1)、換熱結構(2)、熱輻射利用結構(3)；

所述燃燒室主體(1)包括內殼體(11)和外殼體(12)，所述內殼體(11)和外殼體(12)通過上封蓋(13)和下封蓋(14)相連，在內殼體(11)和外殼體(12)之間構成封閉環(huán)形通道(15)，內殼體(11)內部設有燃燒室腔體(16)，內殼體(11)頂部設有燃氣進口(17)和空氣進口(18)，內殼體(11)底部設有排煙口(19)；

所述換熱結構(2)包括以所述燃燒室腔體(16)中軸線為中心呈螺旋回形結構分布的換熱板(20)，設置在所述換熱板(20)上的若干個換熱翅片(21)，以及開設在所述換熱板(20)上用于氣體流通的多個導流孔(22)，以及用于點燃燃氣的多個火口(23)；

所述熱輻射利用結構(3)包括位于所述環(huán)形通道(15)內的多個定位卡座(31)、傳熱介質管(32)和多個熱輻射反射罩(33)，多個所述定位卡座(31)的底部均緊密貼合在所述內殼體(11)外壁上，定位卡座(31)的開口端用于將所述傳熱介質管(32)呈螺旋狀固定在內殼體(11)外壁上，所述傳熱介質管(32)的上端貫穿所述上封蓋(13)用于連接傳熱介質出口(34)，傳熱介質管(32)的下端貫穿所述下封蓋(14)用于連接傳熱介質入口(35)，多個所述熱輻射反射罩(33)緊密貼合在所述外殼體(12)的內壁上，熱輻射反射罩(33)上噴涂有高熱輻射系數(shù)鍍層，用于將內殼體(11)向外輻射的熱量吸收并反射至傳熱介質管(32)進行熱量二次利用；

所述換熱板(20)的外圈層緊密貼合在所述內殼體(11)內壁上，并以內殼體(11)的中軸線為中心逐層向內收卷，形成多圈層的螺旋回形結構，相連兩個圈層之間間隔一定距離以形成氣體混合通道(27)，所述換熱翅片(21)垂直固定在換熱板(20)的每個圈層的表面上，且每一層氣體混合通道(27)內的換熱翅片(21)均成交叉狀；

所述換熱板(20)的內部設有空氣流通腔道(24)，且換熱板(20)的表面上設有與所述空氣流通腔道(24)連通的空氣噴口(25)，換熱板(20)的內圈層上端與所述空氣進口(18)相連，用于引入空氣到所述空氣流通腔道(24)，再從所述空氣噴口(25)均勻噴灑到所述燃燒室腔體(16)內與燃氣混合。

2.如權利要求1所述的一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，所述空氣噴口(25)上設有用于引導空氣噴射方向且?guī)в信c所述換熱板(20)呈一定夾角的導流片(26)。

3.如權利要求1所述的一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，所述定位卡座(31)的底板(311)焊接在所述內殼體(11)外壁，所述底板(311)的兩側通過側板(312)連接有與所述傳熱介質管(32)外形相適配的半圓形弧形板(313)，所述底板(311)、側板(312)以及半圓形弧形板(313)均采用導熱材質一體制成。

4.如權利要求3所述的一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，由所述底板(311)、側板(312)以及半圓形弧形板(313)圍城的密閉空腔內填充有保溫蓄熱填料(314)。

5.如權利要求4所述的一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，所述保溫蓄熱填料(314)包括采用高分子固-固相變材料。

6.如權利要求1所述的一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，所述熱輻射反射罩(33)是有多個弧形罩體(331)焊接而成，所述弧形罩體(331)的開口朝向對應的所述傳熱介質管(32)。

7.如權利要求1所述的一種基于高熱輻射系數(shù)鍍層的熱水器燃燒室，其特征在于，所述鍍層的制備方法包括以下步驟：

S1：按重量組份計，取20-30份體積百分比為25％的納米四氧化三鐵分散液和70-80份體積百分比為25％的納米三氧化二鋁分散液混合，加入8-10份水性粘合劑，攪拌均勻的到漿料；

S2：將所述漿料均勻涂抹在熱輻射反射罩(33)表層，熱輻射反射罩(33)的基體材質為氮化硅，然后放入真空爐內升高溫度至1850-1950℃燒結1-2h，冷卻后，得到鍍層。