[發明專利]渦電流傳感器及研磨裝置在審
| 申請號： | 202010624838.3 | 申請日： | 2020-07-02 |
| 公開（公告）號： | CN112171503A | 公開（公告）日： | 2021-01-05 |
| 發明（設計）人： | 阿部敦史;渡邊和英;高橋太郎 | 申請（專利權）人： | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號： | B24B37/10 | 分類號： | B24B37/10;B24B37/20;B24B37/30;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖華 |
| 地址： | 日本國東京都*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電流傳感器 研磨 裝置 | ||
1.一種渦電流傳感器，用于測定形成于基板的導電性膜的膜厚，所述渦電流傳感器的特征在于，具有：
磁芯，該磁芯是磁性體，且具有基部和外腳，該外腳分別在所述基部的第一方向的兩端部設于所述基部；
勵磁線圈，該勵磁線圈配置于所述磁芯，且用于在所述導電性膜形成渦電流；及
檢測線圈，該檢測線圈配置于所述磁芯，且用于檢測形成于所述導電性膜的所述渦電流，
所述基部在所述第一方向上的長度大于所述基部在與所述第一方向實質地正交的第二方向上的長度。
2.如權利要求1的渦電流傳感器，其特征在于，
所述磁芯是E型磁芯，該E型磁芯在所述基部的所述第一方向的中央具有設于所述基部的中腳，
所述勵磁線圈配置于所述中腳，
所述檢測線圈配置于所述中腳。
3.如權利要求2的渦電流傳感器，其特征在于，
分別在所述基部的所述第二方向的兩端部具有設于所述基部的側腳，
所述側腳與所述外腳連接，所述中腳被所述側腳與所述外腳包圍。
4.如權利要求1的渦電流傳感器，其特征在于，
所述磁芯是U型磁芯，
所述勵磁線圈配置于所述外腳，
所述檢測線圈配置于所述外腳。
5.一種研磨裝置，其特征在于，具備：
研磨臺，該研磨臺以貼合有用于研磨基板的研磨墊的方式構成；
驅動部，該驅動部以驅動所述研磨臺旋轉的方式構成；
保持部，該保持部以保持所述基板并將所述基板按壓于所述研磨墊的方式構成；
權利要求1至4中任一項的渦電流傳感器，所述渦電流傳感器配置于所述研磨臺的內部，且以隨著所述研磨臺的旋轉而檢測形成于所述導電性膜的所述渦電流的方式構成；及
終點檢測控制器，該終點檢測控制器以從所檢測出的所述渦電流算出所述基板的膜厚數據的方式構成。
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