[發明專利]陰離子交換膜的制備方法以及陰離子交換膜

有效

• 申請號: 202010623969.X
• 申請日: 2020-07-01
• 公開（公告）號: CN111729694B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 徐銅文;葛亮;阿福;趙璋
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學先進技術研究院
• 主分類號: B01J41/12
• 分類號: B01J41/12;C02F1/469;C02F1/42;C02F103/08
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 薛福玲

1.一種陰離子交換膜的制備方法，其特征在于，所述陰離子交換膜的制備方法包括以下步驟：

使用多元酰氯溶液對基膜的表面進行改性，其中，所述基膜包括季銨基團以及羥基；所述多元酰氯溶液包括均苯三甲酰氯的正己烷溶液，對苯二甲酰氯的正己烷溶液以及間苯二甲酰氯的正己烷溶液中的至少一種；

持續3min~5min后，擦干所述基膜的表面的液體，得到處理后的所述基膜；

將處理后的所述基膜在40^oC~60^oC下加熱30min~60min，得到陰離子交換膜；

所述基膜的制備步驟為：

將質量百分比為5%~20%的季銨化聚合物溶于質量百分比為80%~95%的第一有機溶劑，以得到第一溶液，其中，所述第一有機溶劑包括二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮以及N,N-二甲基甲酰胺中的至少一種；

將所述第一溶液加工成所述基膜；

所述季銨化聚合物通過以下步驟制備得到：

將質量百分比為10%~20%的鹵甲基化聚合物溶于質量百分比為77%~89%的第二有機溶劑中，得到第二溶液，其中，所述第二有機溶劑包括二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮以及N,N-二甲基甲酰胺中的至少一種；所述鹵甲基化聚合物為溴甲基化聚苯醚；

在所述第二溶液中加入質量百分比為1%~3%的N-甲基二乙醇胺，并在50^oC~60^oC下反應12h~24h得到第三溶液；

在所述第三溶液中加入10mL~20mL甲苯，并收集析出的沉淀；

使用乙醚洗滌所述沉淀，得到所述季銨化聚合物。

2.如權利要求1所述的陰離子交換膜的制備方法，其特征在于，所述使用多元酰氯溶液對基膜的表面進行改性的步驟包括：

將多元酰氯溶液浸潤在所述基膜的表面，以對所述基膜進行改性；或者，

將所述基膜浸泡在多元酰氯溶液中，以對所述基膜進行改性。

3.如權利要求1所述的陰離子交換膜的制備方法，其特征在于，所述將所述第一溶液加工成所述基膜的步驟包括：

將所述第一溶液滴加在平板上；

將所述平板在50^oC~60^oC下加熱10h~12h，得到所述基膜。

4.一種陰離子交換膜，其特征在于，所述陰離子交換膜由如權利要求1至3任一項所述的陰離子交換膜的制備方法制備而成。