[發(fā)明專利]襯底處理裝置及襯底搬送方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010620693.X
• 申請日: 2020-07-01
• 公開（公告）號: CN112242320A
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 桑原丈二
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 陳甜甜

1.一種襯底處理裝置，其特征在于，具備：

移載傳送區(qū)塊，設(shè)置著用于載置能夠收納襯底的載體的載體載置臺；

第1處理區(qū)塊；及

第2處理區(qū)塊；

所述第1處理區(qū)塊、所述移載傳送區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊以該順序在水平方向上呈直線狀連結(jié)，

所述移載傳送區(qū)塊配置在所述第1處理區(qū)塊與所述第2處理區(qū)塊的中間，在內(nèi)部具備載置多個襯底的襯底緩沖區(qū)，

所述移載傳送區(qū)塊從載置在所述載體載置臺的載體取出襯底，搬送到所述襯底緩沖區(qū)，

所述第1處理區(qū)塊從所述襯底緩沖區(qū)接收襯底，對接收的襯底進(jìn)行第1處理，將進(jìn)行過所述第1處理的襯底搬送到所述襯底緩沖區(qū)，

所述第2處理區(qū)塊從所述襯底緩沖區(qū)接收襯底，對接收的襯底進(jìn)行第2處理，將進(jìn)行過所述第2處理的襯底搬送到所述襯底緩沖區(qū)，

所述移載傳送區(qū)塊將從所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊的至少一個搬送來的襯底從所述襯底緩沖區(qū)送回載置于所述載體載置臺的所述載體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其特征在于，

所述載體載置臺配置在所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊的至少任一個的上表面之上或上方。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其特征在于，還具備：

載體保管架，搭載在所述移載傳送區(qū)塊、所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊中的至少任一個之上，用于保管所述載體；及

載體搬送機(jī)構(gòu)，搭載在所述移載傳送區(qū)塊、所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊中的至少任一個之上，在所述載體載置臺與所述載體保管架之間搬送所述載體。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其特征在于，還具備：

載體保管架，保管所述載體；及

載體搬送機(jī)構(gòu)，在所述載體載置臺與所述載體保管架之間搬送所述載體；

所述載體保管架及所述載體搬送機(jī)構(gòu)搭載在所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊中高度較低的區(qū)塊上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其特征在于，

所述第2處理區(qū)塊進(jìn)行與所述第1處理區(qū)塊內(nèi)容相同的處理。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其特征在于，

所述移載傳送區(qū)塊進(jìn)而于內(nèi)部具備移載傳送用襯底搬送機(jī)構(gòu)，

所述移載傳送用襯底搬送機(jī)構(gòu)在載置于所述載體載置臺的載體與所述襯底緩沖區(qū)之間搬送襯底。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底處理裝置，其特征在于，

所述移載傳送區(qū)塊除具備所述移載傳送用襯底搬送機(jī)構(gòu)外，還于內(nèi)部具備另一個移載傳送用襯底搬送機(jī)構(gòu)，

所述2個移載傳送用襯底搬送機(jī)構(gòu)以在與配置所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊的方向正交的方向上隔著所述襯底緩沖區(qū)的方式配置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其特征在于，

所述第1處理區(qū)塊具有第1搬送機(jī)構(gòu)，

所述第2處理區(qū)塊具有第2搬送機(jī)構(gòu)，

所述第1處理區(qū)塊利用所述第1搬送機(jī)構(gòu)從所述襯底緩沖區(qū)接收襯底，對接收的襯底進(jìn)行第1處理，將已利用所述第1搬送機(jī)構(gòu)進(jìn)行過所述第1處理的襯底搬送到所述襯底緩沖區(qū)，

所述第2處理區(qū)塊利用所述第2搬送機(jī)構(gòu)從所述襯底緩沖區(qū)接收襯底，對接收的襯底進(jìn)行第2處理，將已利用所述第2搬送機(jī)構(gòu)進(jìn)行過所述第2處理的襯底搬送到所述襯底緩沖區(qū)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其特征在于，

所述第1處理區(qū)塊及所述第2處理區(qū)塊的至少一個具有以堆積的方式配置的多個處理層，

所述襯底緩沖區(qū)具備與所述多個處理層的層級對應(yīng)地設(shè)置的多個緩沖區(qū)部，

所述緩沖區(qū)部構(gòu)成為能夠分別相對于所述移載傳送區(qū)塊裝卸。