[發(fā)明專利]一種顯示裝置及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010619340.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113946073B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜晶晶;劉曉那;王孟杰;馬禹;陳維濤;鄒佳濱;孫玉家 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1339 | 分類號(hào): | G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333;G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示裝置 及其 制作方法 | ||
一種顯示裝置及其制作方法,其中,顯示裝置包括:相對(duì)設(shè)置的顯示基板和對(duì)盒基板以及設(shè)置在顯示基板和對(duì)盒基板之間的第一隔墊物;第一隔墊物的橫截面的形狀為圓角多邊形。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)涉及但不限于顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種顯示裝置及其制作方法。
背景技術(shù)
液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display,簡(jiǎn)稱LCD)具有體積小、功耗低以及無(wú)輻射等特點(diǎn),近年來(lái)得到飛速發(fā)展,從屏幕尺寸到顯示質(zhì)量都取得了很大進(jìn)步。目前,LCD發(fā)展重點(diǎn)集中在提高畫(huà)面品質(zhì)和降低生產(chǎn)成本等方面。
目前,液晶顯示器的液晶顯示面板包括:彩膜基板和陣列基板,兩基板之間設(shè)置有液晶材料組成的液晶層。為了控制液晶層厚度的穩(wěn)定性,在彩膜基板和陣列基板之間設(shè)置有隔墊物,以起到支撐陣列基板和彩膜基板的作用。對(duì)于一些低分辨率的液晶顯示器,通常隔墊物的支撐面積不足,使得液晶顯示器的抗壓能力較弱。
發(fā)明內(nèi)容
以下是對(duì)本公開(kāi)詳細(xì)描述的主題的概述。本概述并非是為了限制權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
第一方面,本公開(kāi)提供一種顯示裝置,包括:相對(duì)設(shè)置的顯示基板和對(duì)盒基板以及設(shè)置在所述顯示基板和所述對(duì)盒基板之間的第一隔墊物;
所述第一隔墊物的橫截面的形狀為圓角多邊形。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第一隔墊物的橫截面的形狀為圓角矩形。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述顯示裝置還包括:設(shè)置在所述顯示基板和所述對(duì)盒基板之間的第二隔墊物;
所述第二隔墊物的橫截面的形狀與所述第一隔墊物的橫截面的形狀相同,所述第一隔墊物的高度大于所述第二隔墊物的高度。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述顯示裝置包括:陣列排布的多個(gè)子像素區(qū)域,所述顯示裝置還包括:設(shè)置在所述顯示基板和所述對(duì)盒基板之間的第三隔墊物;
所述第三隔墊物位于多個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第三隔墊物位于兩個(gè)或者三個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述第三隔墊物包括:M個(gè)子隔墊物和M-1個(gè)連接部;
每個(gè)子隔墊物位于一個(gè)子像素區(qū)域內(nèi),相鄰兩個(gè)子隔墊物通過(guò)一個(gè)連接部連接,所述子隔墊物的高度等于所述第二隔墊物的高度,所述連接部的高度等于所述子隔墊物的高度;
所述子隔墊物的橫截面的形狀為圓形、橢圓或者圓角多邊形,所述連接部的橫截面的形狀為條形。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述連接部靠近所述顯示基板的表面的寬度小于所述子隔墊物靠近所述顯示基板的表面的寬度;
所述連接部靠近所述顯示基板的表面的寬度大于或者等于6微米。
在一些可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述顯示基板或所述對(duì)盒基板包括:黑矩陣層,所述黑矩陣層設(shè)置有多個(gè)開(kāi)口,每個(gè)子像素區(qū)域包括:黑矩陣區(qū)域和開(kāi)口區(qū)域,黑矩陣區(qū)域包圍所述開(kāi)口區(qū)域;
所述第一隔墊物、所述第二隔墊物和所述第三隔墊物包括:靠近所述顯示基板的第一表面和靠近所述對(duì)盒基板的第二表面,所述第一表面的面積大于所述第二表面的面積;
所述第一隔墊物的第一表面的邊緣與所述第一隔墊物所在子像素區(qū)域中的黑矩陣區(qū)域的邊緣之間的最小距離大于12微米;
所述第二隔墊物的第一表面的邊緣與所述第二隔墊物所在子像素區(qū)域中的黑矩陣區(qū)域的邊緣之間的最小距離大于10微米;
所述第三隔墊物中任一個(gè)子隔墊物的第一表面的邊緣與子隔墊物所在子像素區(qū)域中的黑矩陣區(qū)域的邊緣之間的最小距離大于10微米。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010619340.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





