[發(fā)明專利]一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010618299.2 | 申請日: | 2020-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN111710475B | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉貴師;羅云瀚;鄭華健;陳耀飛;陳雷 | 申請(專利權(quán))人: | 暨南大學(xué) |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00;H01B13/30 |
| 代理公司: | 廣州潤禾知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44446 | 代理人: | 鄭永泉 |
| 地址: | 510632 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圖案 透明 導(dǎo)電 電極 制備 方法 | ||
1.一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1在襯底上沉積金屬納米線,形成金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層;
S2采用巰基化合物對金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行選擇性修飾,改變金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層部分區(qū)域的熱穩(wěn)定性,在修飾與未修飾區(qū)域之間形成熱穩(wěn)定性差異,得到結(jié)構(gòu)化修飾的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層;
S3對結(jié)構(gòu)化修飾的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層進(jìn)行加熱,在金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層熱穩(wěn)定性差的部位得到金屬納米線熔斷的絕緣區(qū)域,在金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層熱穩(wěn)定性好的部位得到金屬納米線完整的導(dǎo)電區(qū)域,形成消影的圖案化透明導(dǎo)電電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述步驟S2的過程為:以巰基化合物為原料,使用帶圖案的器具對金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層進(jìn)行圖案化選擇性修飾,在圖案區(qū)域的金屬納米線表面增加巰基自組裝單分子層,以改變圖案區(qū)域的金屬納米線的熱穩(wěn)定性,并進(jìn)行清洗干燥,形成結(jié)構(gòu)化修飾的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述步驟S2的過程為:以巰基化合物為原料,對金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層進(jìn)行整體修飾,使金屬納米線表面增加巰基自組裝單分子層,以改變金屬納米線的熱穩(wěn)定性,形成整體結(jié)構(gòu)化修飾的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層,再利用帶圖案的保護(hù)層覆蓋整體結(jié)構(gòu)化修飾的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層,并去除圖案區(qū)域中的金屬納米線表面的巰基自組裝單分子層,形成結(jié)構(gòu)化修飾的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述圖案化選擇性修飾由噴墨打印、絲網(wǎng)印刷、膠版印刷、軟印章轉(zhuǎn)印中的任一種制程直接將巰基化合物選擇性沉積在金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)層上,從而選擇性修飾金屬納米線交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述整體修飾的方法為液相修飾、氣相修飾或固態(tài)轉(zhuǎn)印修飾中的任一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述帶圖案的保護(hù)層為金屬掩膜版、菲林掩膜版、石英掩膜版、聚合物薄膜中的任一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述去除圖案區(qū)域的巰基自組裝單分子層的方法為采用等離子體轟擊、紫外/臭氧處理、強脈沖光曝光、化學(xué)腐蝕中的任一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述巰基化合物為苯乙基硫醇、正丙基硫醇、異丙基硫醇、3-巰基丙酸、1-丙硫醇、1,3-丙二硫醇、2,3-二巰基丙醇、正丁基硫醇、正戊基硫醇、正己基硫醇、正辛基硫醇、1-苯基-5-巰基四氮唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并惡唑、十二烷基硫醇、十四烷基硫醇、十六烷基硫醇、十八烷基硫醇、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、4-咪唑二硫代羧酸、苯硫酚等中的任一種或多種的組合。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述襯底為剛性材料,所述剛性材料為玻璃、硅片中的任一種,或所述襯底為柔性材料,所述柔性材料為聚二甲基硅氧烷、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醚砜樹脂、聚乙烯,聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚氨基甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯中的任一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影的圖案化透明導(dǎo)電電極制備方法,其特征在于,所述金屬納米線為銅納米線、銀納米線、金納米線中的一種或幾種的混合。
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