[發(fā)明專(zhuān)利]檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010617714.2
• 申請(qǐng)日: 2020-06-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111812099A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳魯;王天民;龐志亮
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳中科飛測(cè)科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01N21/88
• 分類(lèi)號(hào): G01N21/88;G01N21/01;G01B11/24
• 代理公司: 廣州三環(huán)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強(qiáng)

1.一種檢測(cè)設(shè)備，用于對(duì)待測(cè)物進(jìn)行檢測(cè)處理，其特征在于，包括：

第一檢測(cè)模塊，用于對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行第一檢測(cè)處理，獲取所述待測(cè)物表面待測(cè)點(diǎn)沿預(yù)設(shè)方向的高度信息，所述預(yù)設(shè)方向?yàn)樗龅谝粰z測(cè)模塊的光軸方向；

第二檢測(cè)模塊，用于對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行第二檢測(cè)處理，獲取所述待測(cè)物表面待測(cè)區(qū)的檢測(cè)信息，所述第二檢測(cè)模塊被配置為在所述檢測(cè)處理過(guò)程中根據(jù)所述高度信息進(jìn)行聚焦處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述第一檢測(cè)模塊被配置為沿掃描方向相對(duì)于所述待測(cè)物往復(fù)運(yùn)動(dòng)，所述第二檢測(cè)模塊被配置為沿掃描方向相對(duì)于所述待測(cè)物往復(fù)運(yùn)動(dòng)；所述第一檢測(cè)模塊具有位于所述待測(cè)物表面的第一視場(chǎng)區(qū)，所述第二檢測(cè)模塊具有位于所述待測(cè)物表面的第二視場(chǎng)區(qū)；

所述第一視場(chǎng)區(qū)在垂直于所述掃描方向的平面上的投影沿第一直線(xiàn)方向覆蓋所述第二視場(chǎng)區(qū)的投影，所述第一直線(xiàn)與所述掃描方向相交。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述第一檢測(cè)模塊的個(gè)數(shù)為多個(gè)，所述多個(gè)第一檢測(cè)模塊中具有分別位于所述第二檢測(cè)模塊兩側(cè)的第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述第一檢測(cè)模塊包括多個(gè)三維形貌檢測(cè)裝置，所述第一視場(chǎng)區(qū)的延伸方向與所述掃描方向相交，多個(gè)所述三維形貌檢測(cè)裝置的視場(chǎng)區(qū)形成所述第一視場(chǎng)區(qū)；

多個(gè)所述三維形貌檢測(cè)裝置的視場(chǎng)區(qū)之間至少部分重疊；或者，所述第二檢測(cè)模塊包括多個(gè)全檢探頭，各所述三維形貌檢測(cè)裝置的視場(chǎng)在垂直于掃描方向的平面上的投影沿第一直線(xiàn)方向分別覆蓋各所述全檢探頭視場(chǎng)的投影，且沿所述第一直線(xiàn)方向上，所述三維形貌檢測(cè)裝置的視場(chǎng)大于或等于所述全檢探頭視場(chǎng)的2倍。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述第二檢測(cè)模塊包括全檢探頭，所述全檢探頭用于對(duì)所述待測(cè)物的待測(cè)區(qū)進(jìn)行檢測(cè)處理，獲取第一檢測(cè)信息，所述第一檢測(cè)信息包括所述待測(cè)物表面的目標(biāo)對(duì)象的位置信息。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備還包括自動(dòng)聚焦模塊；所述自動(dòng)聚焦模塊用于對(duì)所述第二檢測(cè)模塊進(jìn)行第一聚焦處理。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述第二檢測(cè)模塊包括至少一個(gè)復(fù)檢探頭，所述復(fù)檢探頭用于根據(jù)所述待測(cè)物的待復(fù)檢的目標(biāo)對(duì)象的位置信息進(jìn)行檢測(cè)處理并獲取所述目標(biāo)對(duì)象的第二檢測(cè)信息；

所述復(fù)檢探頭被配置為根據(jù)所述待測(cè)物的待測(cè)點(diǎn)沿預(yù)設(shè)方向的高度值信息進(jìn)行第二聚焦處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述全檢探頭具有位于所述待測(cè)區(qū)的探測(cè)區(qū)，所述探測(cè)區(qū)為線(xiàn)陣；

所述全檢探頭根據(jù)所述探測(cè)區(qū)內(nèi)各點(diǎn)沿所述預(yù)定方向的高度信息獲取所述探測(cè)區(qū)的平均高度值，所述全檢探頭被配置為根據(jù)所述平均高度值進(jìn)行第三聚焦處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備還包括承載臺(tái)，用于承載所述待測(cè)物；平移臺(tái)，用于帶動(dòng)所述承載臺(tái)沿所述掃描方向平移。

10.一種檢測(cè)方法，用于待測(cè)物的缺陷檢測(cè)，所述檢測(cè)方法的檢測(cè)設(shè)備包括如權(quán)利要求1-9項(xiàng)任一所述檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述方法包括：

通過(guò)第一檢測(cè)模塊對(duì)待測(cè)區(qū)進(jìn)行第一檢測(cè)處理，獲取所述待測(cè)區(qū)中待測(cè)點(diǎn)的高度信息；

所述第一檢測(cè)處理的步驟包括：通過(guò)所述第一檢測(cè)模塊對(duì)所述待測(cè)區(qū)的待測(cè)點(diǎn)進(jìn)行高度檢測(cè)處理，獲取所述待測(cè)物待測(cè)點(diǎn)沿預(yù)設(shè)方向的高度信息，所述預(yù)設(shè)方向?yàn)樗龅谝粰z測(cè)模塊的光軸方向；

通過(guò)第二檢測(cè)模塊對(duì)檢測(cè)所述待測(cè)區(qū)的待測(cè)點(diǎn)進(jìn)行第二檢測(cè)處理，獲取所述待測(cè)區(qū)的待測(cè)點(diǎn)的檢測(cè)信息；

所述第二檢測(cè)處理的步驟包括：根據(jù)所述待測(cè)點(diǎn)的高度信息使所述第二檢測(cè)模塊對(duì)所述待測(cè)點(diǎn)進(jìn)行聚焦處理；

所述聚焦處理之后，通過(guò)所述第二檢測(cè)模塊對(duì)所述待測(cè)點(diǎn)進(jìn)行信息檢測(cè)處理，獲取所述待測(cè)點(diǎn)的檢測(cè)信息。