[發明專利]投影系統及畫面亮度的調整方法

有效

• 申請號: 202010615588.7
• 申請日: 2020-06-29
• 公開（公告）號: CN113934093B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 葛明星;陳龍
• 申請（專利權）人: 無錫視美樂激光顯示科技有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 徐彥圣

1.一種投影系統，其特征在于，包括：光源發生器、光調節器、投影鏡頭、探測器和光源控制器；

所述光調節器，用于對所述光源發生器發出的光進行分向反射，得到第一反射光和第二反射光，其中，所述第一反射光需要進入所述投影鏡頭以實現投影成像；

所述探測器設置于所述第二反射光的傳播方向，用于探測所述第二反射光的功率，并將探測得到的功率發送至所述光源控制器；

所述光源控制器與所述探測器連接，用于接收所述探測器發送的所述功率，基于所述功率確定光源的目標功率，并控制所述光源發生器發出所述目標功率的光，其中，基于所述功率確定光源的目標功率包括：

當所述投影系統處于第一工作狀態時，獲取所述探測器發送的所述第二反射光的第一功率，其中，所述第一工作狀態為：所述光源發生器發出最大功率的光，且所述投影系統輸出第一目標畫面；

當所述投影系統處于第二工作狀態時，獲取所述探測器發送的所述第二反射光的第二功率，其中，所述第二工作狀態為：所述光源發生器發出最大功率的光，且所述投影系統輸出第二目標畫面；

基于所述第一功率和所述第二功率建立光功率與光源輸出功率的映射關系；

基于所述功率和所述映射關系確定所述光源的目標功率。

2.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，還包括：光束整形系統；

所述光束整形系統設置于所述第二反射光的傳播方向，且所述光束整形系統位于所述探測器的前方，用于對所述第二反射光進行整形，以使整形后的第二反射光到達所述探測器。

3.根據權利要求2所述的投影系統，其特征在于，所述光束整形系統包括：會聚系統；

所述會聚系統，用于將所述第二反射光會聚至所述探測器。

4.根據權利要求2所述的投影系統，其特征在于，所述光束整形系統包括：成像系統；

所述成像系統，用于將所述第二反射光的光學出瞳成像至所述探測器。

5.根據權利要求2所述的投影系統，其特征在于，還包括：消光元件；

所述消光元件設置于所述光束整形系統和所述探測器之間，用于對所述光束整形系統整形后的第二反射光進行消光處理，以使消光后的第二反射光到達所述探測器。

6.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述光調節器包括：照明系統和光調制器；

所述照明系統，用于對所述光源發生器發出的光進行處理，使得處理后的光均勻的照射至所述光調制器；

所述光調制器，用于對所述照明系統處理后的光進行分向反射，得到所述第一反射光和所述第二反射光。

7.一種畫面亮度的調整方法，其特征在于，應用于上述權利要求1至6中任一項所述的投影系統中的光源控制器，包括：

獲取所述投影系統中探測器發送的功率，其中，所述功率為所述探測器對所述投影系統中的第二反射光進行探測得到的；

基于所述功率確定光源的目標功率；

控制所述投影系統中的光源發生器發出所述目標功率的光，以使所述目標功率的光經由所述投影系統中的光調節器調節后，得到的第一反射光進入所述投影系統的投影鏡頭成像；

其中，基于所述功率確定光源的目標功率包括：

當所述投影系統處于第一工作狀態時，獲取所述探測器發送的所述第二反射光的第一功率，其中，所述第一工作狀態為：所述光源發生器發出最大功率的光，且所述投影系統輸出第一目標畫面；

當所述投影系統處于第二工作狀態時，獲取所述探測器發送的所述第二反射光的第二功率，其中，所述第二工作狀態為：所述光源發生器發出最大功率的光，且所述投影系統輸出第二目標畫面；

基于所述第一功率和所述第二功率建立光功率與光源輸出功率的映射關系；

基于所述功率和所述映射關系確定所述光源的目標功率。

8.根據權利要求7所述的畫面亮度的調整方法，其特征在于，控制所述投影系統中的光源發生器發出所述目標功率的光包括：

采用預設逐步漸進式方法控制所述光源發生器發出所述目標功率的光。