[發明專利]高太陽光反射率陶瓷板及其制備方法

有效

• 申請號: 202010611143.1
• 申請日: 2020-06-30
• 公開（公告）號: CN111875414B
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 劉一軍;吳洋;汪慶剛;楊元東;蕭禮標
• 申請（專利權）人: 蒙娜麗莎集團股份有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C03C8/20;C03C8/08;C03C8/00
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

1.高太陽光反射率陶瓷板的制備方法，其特征在于，包括：

在陶瓷素坯表面施乳濁釉；所述乳濁釉的原料組成包括：以質量百分比計，鈦熔塊8～12%，二氧化鈦8～10%，方解石18～24%，鉀長石19～30%，石英15～20%，燒土5～10%，高嶺土12～16%；所述鈦熔塊的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：52～55%、Al₂O₃：7～11%、CaO：15～19%、TiO₂：8～11%、Fe₂O₃：0.08～0.17%、MgO：2.05～3.5%、K₂O：3.2～4.7%、Na₂O：0.8～2.5%、P₂O₅ 0.22～0.55%；所述鈦熔塊在920～950℃析出鈦榍石晶粒并以所述鈦榍石晶粒為晶種誘導所述二氧化鈦和方解石反應生成粒徑450～600nm的鈦榍石晶相；

在施乳濁釉后的陶瓷素坯表面噴墨打印圖案，噴墨打印圖案的灰度為40%以下；

在噴墨打印圖案后的素坯表面施保護釉；

將施保護釉后的素坯燒成，得到所述高太陽光反射率陶瓷板；

其中，所述乳濁釉燒成后的物相組成中鈦榍石晶相的含量為18～22wt%。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述乳濁釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：44～48%、Al₂O₃：19～21%、Fe₂O₃：0.05～0.19%、CaO：10～14%、TiO₂：10～12%、MgO：0.1～0.5%、K₂O：2.4～2.6%、Na₂O：0.5～1.2%、燒失1.0～1.5%。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述乳濁釉的施加方式為噴釉，比重為1.5～1.55 g/cm³，施釉量為500～600g/m²。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，用于噴墨打印圖案的色料為包裹紅和/或檸檬黃。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：43～52%、Al₂O₃：15～20%、Fe₂O₃：0.05～0.19%、CaO：3%～5%、MgO：2%～4%、K₂O：2.5～5%、Na₂O：0.5～1.2%、BaO:1~3%、ZnO：2~5%、燒失0.4～0.8%。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉的燒成溫度為1130～1220℃。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉的光澤度為8～15°。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉的施加方式為噴釉，所述保護釉的比重為1-1.3g/cm³，施釉量為250-300g/m²。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，最高燒成溫度為1150～1220℃，燒成時間為60～70min。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的制備方法獲得的高太陽光反射率的陶瓷板，其特征在于，所述陶瓷板的規格為長600-900mm×寬1200-1800mm×高10.5-13.5mm，太陽光反射率0.5-0.95。