[發(fā)明專利]用于獲取電子反向散射衍射圖樣的方法和系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010610022.5 | 申請日: | 2020-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN112179928A | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | P·斯特斯卡爾;C·J·斯蒂芬斯 | 申請(專利權(quán))人: | FEI公司 |
| 主分類號: | G01N23/203 | 分類號: | G01N23/203 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周學(xué)斌;申屠偉進 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 獲取 電子 反向 散射 衍射 圖樣 方法 系統(tǒng) | ||
提供了用于獲取電子反向散射衍射圖樣的各種方法和系統(tǒng)。在一個實例中,通過將帶電粒子束引向ROI內(nèi)的多個撞擊點并檢測從所述多個撞擊點散射的粒子來執(zhí)行第一次掃描。基于檢測到的粒子來計算所述多個撞擊點中的每個撞擊點的信號質(zhì)量。基于每個撞擊點的所述信號質(zhì)量來計算所述ROI的信號質(zhì)量。響應(yīng)于所述ROI的所述信號質(zhì)量低于閾值信號質(zhì)量,執(zhí)行對所述ROI的第二次掃描。可以基于檢測到的來自所述第一次掃描和所述第二次掃描兩者的粒子來形成樣品的結(jié)構(gòu)圖像。
技術(shù)領(lǐng)域
本說明書總體上涉及用于獲取反向散射電子的方法和系統(tǒng),并且更具體地說,涉及數(shù)據(jù)驅(qū)動的電子反向散射衍射圖樣獲取。
背景技術(shù)
當(dāng)用如電子束的帶電粒子束照射樣品時,樣品可能產(chǎn)生各種類型的發(fā)射。其中,反向散射電子由高能電子組成,這些高能電子通過帶電粒子束與樣品原子之間的彈性散射相互作用而反射或反向散射出樣品的相互作用體積。反向散射電子可以由檢測器以二維電子反向散射衍射(EBSD)圖樣的形式收集。相互作用體積中的結(jié)構(gòu)信息(如晶體取向)可以通過對EBSD圖樣進行分析和解釋來確定。
發(fā)明內(nèi)容
在一個實施例中,用于對樣品進行成像的方法包括:通過將帶電粒子束引向ROI內(nèi)的多個撞擊點并檢測從多個撞擊點中的每個撞擊點散射的粒子來執(zhí)行第一次掃描;基于從撞擊點散射的檢測到的粒子,計算多個撞擊點中的每個撞擊點的信號質(zhì)量;基于每個撞擊點的信號質(zhì)量,計算ROI的信號質(zhì)量,其中ROI的信號質(zhì)量低于閾值信號質(zhì)量;通過在計算ROI的信號質(zhì)量之后,將帶電粒子束引向ROI內(nèi)的多個撞擊點中的一個或多個并檢測從ROI內(nèi)的多個撞擊點中的一個或多個散射的粒子來執(zhí)行第二次掃描;和基于在第一次掃描和第二次掃描期間檢測到的粒子,形成ROI的結(jié)構(gòu)圖像。以這種方式,可以減少帶電粒子束在每個撞擊點的停留時間。此外,可以基于獲取的數(shù)據(jù)的質(zhì)量來終止EBSD圖樣獲取,從而可以減少總數(shù)據(jù)獲取時間和帶電粒子束對樣品的損傷。
應(yīng)當(dāng)理解,提供以上發(fā)明內(nèi)容以便以簡化的形式引入在詳細描述中進一步描述的一系列概念。其并不意味著標(biāo)識所要求保護的主題的關(guān)鍵或必要特征,其范圍由詳細描述之后的權(quán)利要求進行唯一地限定。此外,所要求保護的主題并不限于解決上文或本公開的任何部分中指出的任何缺點的實施方式。
附圖說明
圖1示出根據(jù)示例性實施例的用于電子反向散射衍射(EBSD)圖樣獲取的成像系統(tǒng)。
圖2圖示了基于EBSD圖樣來形成結(jié)構(gòu)圖像的實例程序。
圖3是用于基于數(shù)據(jù)驅(qū)動的EBSD圖樣獲取來形成結(jié)構(gòu)圖像的方法的流程圖。
圖4A、4B、4C、4D、4E和4F是隨時間形成的撞擊點的EBSD圖樣。
圖5A和5B示出了用于對感興趣區(qū)域進行成像的不同掃描模式。
圖6示出了用于獲取EBSD圖樣的示例性時間線。
貫穿附圖的若干視圖,相似的附圖標(biāo)記指代對應(yīng)的部分。
具體實施方式
以下描述涉及用于獲取電子反向散射衍射(EBSD)圖樣并基于EBSD圖樣生成樣品的結(jié)構(gòu)圖像的系統(tǒng)和方法。EBSD圖樣可以通過圖1所示的成像系統(tǒng)來獲取。在一個實例中,如圖2所示,基于響應(yīng)于帶電粒子束撞擊樣品的撞擊點而檢測到的散射電子來生成EBSD圖樣。基于EBSD圖樣,可以提取撞擊點處的結(jié)構(gòu)信息,如晶體取向信息,并在結(jié)構(gòu)圖像中形成像素。通過在感興趣區(qū)域(ROI)上掃描帶電粒子束,可以生成ROI的結(jié)構(gòu)圖像。
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