[發(fā)明專利]光學成像系統(tǒng)的標定靶標和標定方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010598721.2 | 申請日: | 2020-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN111598959A | 公開(公告)日: | 2020-08-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳濤;李劍平;章逸舟 | 申請(專利權)人: | 中國科學院深圳先進技術研究院 |
| 主分類號: | G06T7/80 | 分類號: | G06T7/80 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;吳曉青 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 成像 系統(tǒng) 標定 靶標 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種光學成像系統(tǒng)的標定靶標和標定方法。一方面,本發(fā)明公開的標定靶標包括標定靶標本體,標定靶標本體包括多個沿第一方向依次層疊設置的標定臺。另一方面,本發(fā)明公開的標定方法包括:將上述標定靶標設置于光學成像系統(tǒng)的成像區(qū)域內,獲取光學成像系統(tǒng)采集的測試圖像,通過對測試圖像進行圖像分析獲得光學成像系統(tǒng)的成像指標。本發(fā)明的標定靶標為三維標定靶標,可同時標定光學成像系統(tǒng)的多個指標,不僅操作簡便、簡化了標定過程,且結構簡單、易于加工。應用本發(fā)明的標定靶標和標定方法對光學成像系統(tǒng)的各項指標進行標定可以極大地提高光學成像系統(tǒng)的標定效率。
技術領域
本發(fā)明涉及光學成像技術領域,具體地,涉及一種光學成像系統(tǒng)的標定靶標和標定方法。
背景技術
光學成像系統(tǒng)可以對目標物體進行光學成像,通過對采集的數(shù)字圖像進行處理分析,可以得到目標物體的屬性信息,例如大小、形態(tài)、結構、色彩、密度、身份等。為了準確獲取上述屬性信息,需要對成像系統(tǒng)的調焦、分辨率、景深、倍率、視場、畸變、白平衡、像差、動態(tài)范圍、照明器的光照層厚度、照明亮度均勻性等指標進行標定,以便標定光學成像系統(tǒng)的成像性能,并據(jù)此對光學成像系統(tǒng)做出合理調整。
通常可以采用靶標等標定產(chǎn)品對光學成像系統(tǒng)的各項指標進行標定。圖1是現(xiàn)有技術的USAF 1951分辨率測試板。圖2是現(xiàn)有技術的朗奇刻線法測試板。圖3是現(xiàn)有技術的星標測試板。圖4是現(xiàn)有技術的畸變測試板。現(xiàn)有技術的用于光學成像的標定產(chǎn)品通常只能對單一指標進行標定,例如:圖1是現(xiàn)有技術的用于檢測光學成像系統(tǒng)的分辨率的USAF 1951測試板,USAF 1951測試板是愛特蒙特光學和索雷博公司用于標定成像系統(tǒng)分辨率的其中一種產(chǎn)品。參照圖1所示,USAF 1951測試板由一系列的間距按照一定規(guī)律變化的水平和垂直線組成,通過找出成像系統(tǒng)不能識別的最小的線對,計算光學成像系統(tǒng)的分辨率。圖2是現(xiàn)有技術用于檢測光學成像系統(tǒng)的分辨率的朗奇刻線法測試板,參照圖2所示,郎奇刻線法的測試板包括多條具有相同間隔的重復線條,多條線條朝一個方向延伸,并覆蓋了測試板的整個表面。圖3是現(xiàn)有技術用于檢測光學成像系統(tǒng)的分辨率的星標測試板,參照圖3所示,星標測試板通過一圈凹凸交替的餅形組成,餅形沿靠近圓心的方向寬度連續(xù)發(fā)生變化,餅形越靠近圓心的部分寬度越窄。餅形的寬度變化可以在垂直、水平及其他方向測試光學成像系統(tǒng)的分辨率。圖4是現(xiàn)有技術的用于檢測光學成像系統(tǒng)的畸變的畸變測試板,參照圖4所示,畸變測試板由點網(wǎng)格或方形圖案組成,能提供理論上未發(fā)生畸變的點的位置與實際發(fā)生畸變點的位置信息,從而求解畸變模型,校正光學成像系統(tǒng)的畸變。
從上述舉例的現(xiàn)有技術的標定產(chǎn)品來看,測試圖形都是位于同一平面,屬于二維的標定產(chǎn)品,只能檢測單一的指標。當檢測光學成像系統(tǒng)的其它指標時,需要更換其它類型的標定產(chǎn)品或者需要移動標定產(chǎn)品的位置,檢測多個指標時,采用現(xiàn)有技術的標定產(chǎn)品操作十分復雜。
因此,設計一種操作簡單、可標定多個指標的標定靶標是本領域技術人員亟待解決的技術難題。
發(fā)明內容
為解決上述現(xiàn)有技術存在的問題,本發(fā)明提供了一種操作簡單、可標定多個指標的光學成像系統(tǒng)的標定靶標以及采用上述標定靶標標定光學成像系統(tǒng)各項指標的標定方法。
為了達到上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用了如下的技術方案:
本發(fā)明公開了一種光學成像系統(tǒng)的標定靶標,所述標定靶標包括:
標定靶標本體,包括多個沿第一方向依次層疊設置的標定臺,所述多個標定臺的橫截面的形狀相同;所述多個標定臺的橫截面的面積沿著所述第一方向依次減小;其中,所述第一方向垂直于所述標定臺的橫截面;所述標定靶標本體與光學成像系統(tǒng)可拆卸地連接。
進一步地,所述標定靶標還包括連接每個標定臺邊緣的標尺,所述標尺背離所述標定標靶本體的表面上設置有刻度標記;所述標尺設置有多個,所述多個標尺上的刻度標記的單位刻度值各不相同;
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