[發明專利]基于多邊形區域表征的全芯片光源掩模優化關鍵圖形篩選方法

在審

• 申請號: 202010598671.8
• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN111929983A
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 廖陸峰;李思坤;王向朝
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G03F1/76
• 分類號: G03F1/76;G03F7/20
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種用于全芯片光源掩模優化的關鍵圖形篩選方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1.計算掩模圖形的衍射譜

計算每個掩模圖形P_i的衍射譜，公式如下：

F_i＝FFT{P_i} (1)

其中，F_i表示第i個掩模圖形P_i的衍射譜，i＝1,…,N；

步驟2.主要頻率提取：

步驟2.1對掩模圖形的衍射譜進行預處理，經過預處理后的掩模圖形衍射譜記為ζ_i；

步驟2.2設置方向總數n，采用編號1,2,…,n表示方向0*360°/n,1*360°/n,…,(n-1)*360°/n，其中，10≤n≤36，當掩模圖形具有周期性時，進入步驟2.3，否則，進入步驟2.4；

步驟2.3周期掩模圖形的主要頻率提?。?/p>

周期掩模圖形的衍射譜ζ_i由離散的衍射峰構成，每個衍射峰對應一個衍射級次；

當周期掩模圖形僅包含單一周期時，提取第一衍射級次作為主要頻率，并查找主要頻率的強度峰值對應的頻率坐標稱為峰值頻率，記錄該主要頻率，表示為其中j表示當前主要頻率的編號，j＝1,…,M，w₁,w₂,w₃,…,w_n分別表示主要頻率在衍射譜面的投影在方向1,2,3,…,n上的寬度；

當周期掩模圖形包含多個周期時，主要頻率的提取步驟如下：

a.查找強度最大的衍射級次；

b.提取強度最大的衍射級次作為主要頻率，并查找該主要頻率的峰值頻率記錄該主要頻率，表示為其中w₁,w₂,w₃,…,w_n的值都為0；

c.在衍射譜ζ_i中移除步驟b中提取的主要頻率及其對應的諧波衍射級次；

d.重復步驟a至c，直至所有衍射級次都被移除；

對所有周期掩模圖形進行上述操作，直至記錄所有周期掩模圖形對應的主要頻率；

步驟2.4非周期掩模圖形得主要頻率提?。?/p>

非周期掩模圖形的衍射譜ζ_i由連續的衍射峰構成，提取預處理后的衍射譜的所有衍射峰作為掩模圖形的主要頻率，對于其中一個主要頻率，計算w₁,w₂,w₃,…,w_n，查找峰值頻率，記錄該主要頻率，表示為對當前掩模圖形的所有主要頻率做上述操作，記錄當前掩模圖形所有的主要頻率；直到記錄所有非周期掩模圖形的主要頻率；

步驟3.主要頻率聚類：

步驟3.1根據覆蓋規則確定所有主要頻率兩兩之間的覆蓋關系，并記錄每個主要頻率所覆蓋的所有主要頻率及數量；

步驟3.2將所有主要頻率的狀態標記為unvisited；

步驟3.3在所有狀態為unvisited的主要頻率中查找所覆蓋主要頻率數量最大的主要頻率，稱為中心主要頻率；并將中心主要頻率與其所覆蓋的主要頻率作為一組主要頻率，稱為主要頻率分組，并將該組內所有主要頻率的狀態修改為visited；

步驟3.4重復步驟3.3，直至所有主要頻率的狀態都已被修改為visited；

步驟3.5在所有主要頻率中查找被重復分組的主要頻率，并計算這些主要頻率的峰值頻率與他們所在組的中心主要頻率的峰值頻率之間的距離，將這些主要頻率劃分至距離最小的那一組，并在其他所在組中刪除這些主要頻率；

步驟3.6查找主要頻率分組中除中心主要頻率之外覆蓋所有主要頻率的主要頻率，將該主要頻率作為中心主要頻率，對所有主要頻率分組執行上述操作；

步驟4.關鍵圖形篩選：

步驟4.1將所有中心主要頻率的狀態都標記為unvisited；

步驟4.2根據步驟2.提取出的每個掩模圖形的主要頻率信息，查找出具有數量最多的狀態為unvisited的中心主要頻率的掩模圖形，將該掩模圖形篩選出來，作為關鍵掩模圖形；

步驟4.3將步驟4.2中篩選出的關鍵掩模圖形的中心主要頻率的狀態修改為visited，將與這些中心主要頻率同組的其他中心主要頻率的狀態修改為visited；

步驟4.4重復步驟4.2至4.3，直至所有中心主要頻率的狀態都被修改為visited，即篩選出了所有關鍵掩模圖形。