[發(fā)明專利]投射光學(xué)系統(tǒng)和投影儀

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010597110.6
• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN112147833B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 峯藤延孝
• 申請（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李慶澤;鄧毅

1.一種投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，其從放大側(cè)起依次具有：

第1透鏡組，其具有負(fù)屈光力，包含3片負(fù)透鏡；

第2透鏡組，其具有正屈光力，包含至少一片正透鏡；

第3透鏡組，其具有正屈光力，包含多片正透鏡；以及

第1光路偏轉(zhuǎn)元件，其配置于所述第1透鏡組與所述第2透鏡組之間、或所述第2透鏡組與所述第3透鏡組之間的一方之間，使光路偏轉(zhuǎn)，

所述第1透鏡組的所述3片負(fù)透鏡均為單透鏡，

所述第3透鏡組具有包含所述多片正透鏡中的至少一片正透鏡的接合透鏡，

在設(shè)整個系統(tǒng)的焦距為f、配置有所述第1光路偏轉(zhuǎn)元件的所述一方之間的間隔為d、所述投射光學(xué)系統(tǒng)的縮小側(cè)最大像高處的畸變像差為Dst的情況下，滿足以下的條件式(1)和條件式(2)：

4.0d/f12.0……(1)

-45％Dst-10％……(2)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

該投射光學(xué)系統(tǒng)具有第2光路偏轉(zhuǎn)元件，該第2光路偏轉(zhuǎn)元件配置于與配置有所述第1光路偏轉(zhuǎn)元件的所述一方之間不同的另一方之間，使光路偏轉(zhuǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

在設(shè)所述第1透鏡組的焦距為f1、所述第2透鏡組與所述第3透鏡組的合成焦距為f23的情況下，滿足以下的條件式(3)和條件式(4)：

1.5|f1/f|2.5……(3)

0.2|f1/f23|0.6……(4)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

在設(shè)所述第2透鏡組的焦距為f2的情況下，滿足以下的條件式(5)：

4.0f2/f12.0……(5)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

所述第3透鏡組中最靠縮小側(cè)的縮小側(cè)第1透鏡為凸面朝向所述縮小側(cè)的正透鏡，

在設(shè)所述第3透鏡組的焦距為f3的情況下，滿足以下的條件式(6)：

3.0f3/f8.0……(6)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

所述第1光路偏轉(zhuǎn)元件為反射鏡。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

所述第1光路偏轉(zhuǎn)元件為棱鏡。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

所述第2光路偏轉(zhuǎn)元件為反射鏡。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，

所述第2光路偏轉(zhuǎn)元件為棱鏡。

10.一種投影儀，其特征在于，其具有：

權(quán)利要求1～9中的任意一項所述的投射光學(xué)系統(tǒng)；

光源；以及

光調(diào)制元件，其在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的縮小側(cè)像面處對來自所述光源的光進(jìn)行調(diào)制，形成具有對所述投射光學(xué)系統(tǒng)的畸變像差進(jìn)行校正的畸變的投射圖像，

所述投影儀向所述投射光學(xué)系統(tǒng)的放大側(cè)像面投射已校正所述畸變像差后的放大像。