[發明專利]投射光學系統和投影儀

有效

• 申請號: 202010595884.5
• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN112147832B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 峯藤延孝
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李慶澤;鄧毅

1.一種投射光學系統，其特征在于，其從放大側起依次具有：

第1透鏡組，其具有負屈光力，包含至少3片負透鏡；

第2透鏡組，其具有正屈光力，包含至少1片正透鏡；以及

第3透鏡組，其具有正屈光力，包含多個正透鏡，

所述第1透鏡組的所述至少3片負透鏡均為單透鏡，

所述第3透鏡組具有包含所述多個正透鏡中的至少1片正透鏡的接合透鏡，

在設所述投射光學系統的縮小側數值孔徑為NA、所述投射光學系統的縮小側最大像高處的畸變像差為Dst的情況下，滿足以下的條件式(1)和條件式(2)：

0.2NA ……(1)

-45％Dst-10％……(2)。

2.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

在設整個系統的焦距為f、所述第1透鏡組的焦距為f1、所述第2透鏡組與所述第3透鏡組的合成焦距為f23的情況下，滿足以下的條件式(3)和條件式(4)：

0.8|f1/f|2.2……(3)

0.2|f1/f23|0.6……(4)。

3.根據權利要求1或2所述的投射光學系統，其特征在于，

在設所述第2透鏡組的焦距為f2、第2透鏡組所包含的正透鏡的折射率的平均值為N、阿貝數的平均值為V的情況下，滿足以下的條件式(5)、條件式(6)和條件式(7)：

4.0f2/f10.0 ……(5)

N1.65 ……(6)

V35 ……(7)。

4.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第3透鏡組中最靠縮小側的縮小側第1透鏡為凸面朝向所述縮小側的正透鏡，

在設所述第3透鏡組的焦距為f3的情況下，滿足以下的條件式(8)：

2.0f3/f6.0 ……(8)。

5.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1透鏡組的透鏡中的1片透鏡在所述放大側的面具有非球面。

6.一種投影儀，其特征在于，其具有：

權利要求1～5中的任意一項所述的投射光學系統；

光源；以及

光調制元件，其配置于所述投射光學系統的縮小側共軛面，對來自所述光源的光進行調制，形成具有對所述投射光學系統的畸變像差進行校正的畸變的投射圖像，

所述投影儀向所述投射光學系統的放大側共軛面投射已校正所述畸變像差后的放大像。