[發(fā)明專利]一種巨磁電阻磁單極開關(guān)傳感器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010594967.2 | 申請日: | 2020-06-28 | 
| 公開(公告)號: | CN111769192A | 公開(公告)日: | 2020-10-13 | 
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 唐曉莉;李光耀;姜杰 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué);上海麥歌恩微電子股份有限公司 | 
| 主分類號: | H01L43/02 | 分類號: | H01L43/02;H01L43/08;H01L43/10;G01D5/14;G01R33/09 | 
| 代理公司: | 電子科技大學(xué)專利中心 51203 | 代理人: | 閆樹平 | 
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁電 單極 開關(guān) 傳感器 | ||
1.一種巨磁電阻磁單極開關(guān)傳感器,由四個完全一致的傳感單元組成惠斯通電橋結(jié)構(gòu),其特征在于:
所述傳感單元為長條形雙釘扎結(jié)構(gòu)磁電阻傳感單元薄膜,為從下至上依次沉積的基片/緩沖層/反鐵磁層1/鐵磁層1/隔離層/鐵磁層2/反鐵磁層2;其長短軸比為5:1~15:1,短軸的線寬為1~20μm;
鐵磁層1/反鐵磁層1和鐵磁層2/反鐵磁層2在薄膜沉積時通過施加大小50~1000Gs的沉積磁場H,分別形成對應(yīng)的交換偏置場H1、H2,方向沿傳感單元膜面長軸方向;且鐵磁層1的翻轉(zhuǎn)場h1、h2對應(yīng)于傳感器所需開、關(guān)場Bop和Brp,鐵磁層2/反鐵磁層2兩層薄膜產(chǎn)生的交換偏置場H2遠大于傳感器所需開關(guān)場,即H2≥10H1。
所述惠斯通電橋結(jié)構(gòu)的一組對應(yīng)橋臂設(shè)有完全覆蓋所屬傳感單元的矩形屏蔽層框。
2.如權(quán)利要求1所述巨磁電阻磁單極開關(guān)傳感器,其特征在于:所述H1、H2的大小通過鐵磁層1/2、反鐵磁層1/2的材料和厚度選擇進行調(diào)控。
3.如權(quán)利要求1所述巨磁電阻磁單極開關(guān)傳感器,其特征在于:
所述基片材料為Si/SiO2;反鐵磁層1、2材料采用FeMn、NiMn、IrMn或PtMn的金屬反鐵磁材料,厚度選擇為5-20nm;鐵磁層1、2采用Ni、Fe、Co或Ni/Fe/Co合金的鐵磁性材料,厚度選擇為5-15nm;隔離層采用Cu或Ag的非磁性導(dǎo)體材料,厚度選擇為1.8-5nm;緩沖層采用Ta、NiFeCr或Pt,厚度選擇為3-5nm。
4.如權(quán)利要求1所述巨磁電阻磁單極開關(guān)傳感器,其特征在于:所述傳感單元還包括設(shè)置在反鐵磁層2上的保護層。
5.如權(quán)利要求4所述巨磁電阻磁單極開關(guān)傳感器,其特征在于:所述保護層的材料為Ta,厚度選擇為3-5nm。
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