[發(fā)明專利]一種用于頭戴產(chǎn)品適配性分析的間隙測量方法

有效

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• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN111795667B
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發(fā)明（設計）人: 李哲林;鄧祥洪;姜立軍;邵玉光;朱杰城;姜山小
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: G01B21/16
• 分類號: G01B21/16;G06T17/00
• 代理公司: 廣州市華學知識產(chǎn)權代理有限公司 44245
• 代理人: 李秋武

本發(fā)明涉及一種用于頭戴產(chǎn)品適配性分析的間隙測量方法，包括以下步驟，選取待測量的產(chǎn)品模型和用于測量的標準頭型；將產(chǎn)品模型疊加于標準頭型；剖切疊加于標準頭型的產(chǎn)品模型，獲得一剖面圖形；讀取剖面圖形獲得頭型輪廓曲線和模型輪廓曲線；計算得到頭型輪廓曲線任一點與模型輪廓曲線對應點之間距離。通過計算結果得到的距離能直觀顯示頭戴產(chǎn)品和頭型的適配效果。通過更換不同的標準頭型，方便同時選擇不同頭型進行佩戴效果對比，能夠提供改善頭戴產(chǎn)品適配性的量化數(shù)據(jù)，避免出現(xiàn)因為頭戴產(chǎn)品與頭部有相互干涉或是間隙過大而產(chǎn)生的體驗不佳的情況，有效提升頭戴產(chǎn)品的用戶體驗，節(jié)約后期進行可用性測試的成本，提高頭戴產(chǎn)品的競爭力。

技術領域

本發(fā)明涉及頭戴產(chǎn)品適配性分析領域，特別是涉及一種用于頭戴產(chǎn)品適配性分析的間隙測量方法。

背景技術

消費市場的快速增長為可穿戴產(chǎn)品創(chuàng)造了新的需求，同時用戶對頭戴產(chǎn)品的舒適性要求越來越高。頭型與和產(chǎn)品的形態(tài)適配性很大程度上決定了產(chǎn)品的佩戴舒適性，產(chǎn)品設計需要根據(jù)頭面部形態(tài)的精確數(shù)據(jù)來設計，頭戴產(chǎn)品和頭型的適配性對用戶佩戴時舒適性、安全性而言很重要。它們之間需要一個合適的配合，來增強用戶的使用舒適度，使其更加符合人機工程。首先，若佩戴不適配的頭戴產(chǎn)品會帶來用戶體驗層面上的不佳，其次，若佩戴一些涉及到安全性能與產(chǎn)品佩戴貼合度緊密相關的保護類產(chǎn)品，例如自行車頭盔等，則無法保證使用者的安全。

目前設計這些頭戴產(chǎn)品時，設計師進行產(chǎn)品適配性測試主要通過3種方式：第一，通過查閱行業(yè)相關設計標準，在設計開始時就注重人機尺寸；第二，通過與結構工程師或者產(chǎn)品經(jīng)理進行協(xié)商，調(diào)整產(chǎn)品的造型方案；第三，在確定方案后的產(chǎn)品進行打樣測試，招募一定數(shù)量的測試者，依據(jù)測試結果進行適配性的改善。然而，設計師依照以上的方式進行相關的適配性分析結果并無法很好的適配廣大的用戶，不能直觀顯示產(chǎn)品和頭型的適配效果，也不方便同時選擇不同頭型進行佩戴效果對比，導致設計出的頭戴產(chǎn)品適配性不佳，用戶體驗差。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術中存在的技術問題，本發(fā)明的目的是：提供一種用于頭戴產(chǎn)品適配性分析的間隙測量方法，其能直觀顯示頭戴產(chǎn)品和頭型的適配效果，方便同時選擇不同頭型進行佩戴效果對比，能夠提供改善頭戴產(chǎn)品適配性的量化數(shù)據(jù)，用戶體驗好。

為了達到上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案：

一種用于頭戴產(chǎn)品適配性分析的間隙測量方法，包括以下步驟，

選取待測量的產(chǎn)品模型和用于測量的標準頭型；

將產(chǎn)品模型疊加于標準頭型；

剖切疊加于標準頭型的產(chǎn)品模型，獲得一剖面圖形；

讀取剖面圖形獲得頭型輪廓曲線和模型輪廓曲線；

計算得到頭型輪廓曲線任一點與模型輪廓曲線對應點之間距離。

進一步，標準頭型的獲取方法包括以下步驟，

通過對建模而成的圓高頭型、圓正頭型、中高頭型、中正頭型和圓特高頭型的特征點進行均值處理獲得標準頭型。

進一步，剖面圖形的獲取包括以下步驟，

基于WebGL技術在三維空間中建立一個剖切平面，通過圖形軸向剖切法利用剖切平面對疊加于標準頭型的產(chǎn)品模型進行剖切，獲得剖面圖形。

進一步，剖切平面設置成平行于XOZ坐標平面、XOY坐標平面或YOZ坐標平面。

進一步，計算得到頭型輪廓曲線任一點與模型輪廓曲線對應點之間距離后，還包括以下步驟，將多個距離的值繪制于繪圖平面并以曲線形式連接。

進一步，獲得頭型輪廓曲線和模型輪廓曲線包括以下步驟，