[發(fā)明專利]利用電阻率進行快速增材制造的鈦強度評估的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010594466.4 | 申請日： | 2020-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN112149270A | 公開（公告）日： | 2020-12-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | A·H·貝克 | 申請（專利權(quán)）人： | 波音公司 |
| 主分類號： | G06F30/20 | 分類號： | G06F30/20;G06F113/26;G06F111/10 |
| 代理公司： | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人： | 尚曉芹 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 電阻率 進行 快速 制造 強度 評估 方法 | ||
1.計算機實施的評估用于增材制造的材料強度的方法(200)，所述方法包括：
針對設(shè)定的位錯密度，通過多個處理器來校準(zhǔn)(202)多相增材材料的基線電阻率，作為相分?jǐn)?shù)和相組成的函數(shù)，其中所述材料的各個相具有不同的電阻率值；
在增材制造過程中，在所述增材材料經(jīng)歷多個加熱和冷卻循環(huán)之后，通過多個處理器表征(206)所述增材材料的相分率、相組成和電阻率；和
根據(jù)增材制造后的電阻率，考慮到通過表征確定的相分?jǐn)?shù)和相組成的影響，通過多個處理器確定(208)所述增材材料的位錯密度。
2.權(quán)利要求1所述的方法，其中針對經(jīng)過熱處理(302)以將位錯密度降低至指定的最小值的增材材料校準(zhǔn)基線電阻率。
3.前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中校準(zhǔn)基線電阻率進一步包括確定(304)所述增材材料中的相分?jǐn)?shù)和相組成。
4.權(quán)利要求1-2中任一項所述的方法，其中校準(zhǔn)基線電阻率進一步包括確定(306)空位和堆疊故障對電阻率的貢獻。
5.權(quán)利要求1-2中任一項所述的方法，其中使用以下至少一種來確定所述增材材料的相分?jǐn)?shù)：
掃描電子顯微照片(142)；
光學(xué)顯微照片(144)；或
X射線衍射(146)。
6.權(quán)利要求1-2中任一項所述的方法，其中使用以下至少一種來確定所述增材材料的相組成：
電子色散光譜(152)；或
電感耦合等離子體光譜(154)。
7.權(quán)利要求1-2中任一項所述的方法，其中電阻率是利用多點接觸探針歐姆計(130)確定的。
8.權(quán)利要求1-2中任一項所述的方法，其中所述增材材料包括鈦合金。
9.用于評估增材制造的材料強度的系統(tǒng)(160)，所述系統(tǒng)包括：
總線系統(tǒng)(502)；
連接到所述總線系統(tǒng)的存儲裝置(508)，其中所述存儲設(shè)備存儲程序指令(518)；和
連接到所述總線系統(tǒng)的多個處理器(504)，其中所述多個處理器執(zhí)行所述程序指令以：
針對設(shè)定的位錯密度校準(zhǔn)(202)多相增材材料的基線電阻率，作為相分?jǐn)?shù)和相組成的函數(shù)，其中所述材料的各個相具有不同的電阻率值；
在增材制造期間，在所述增材材料經(jīng)歷多次加熱和冷卻循環(huán)后，表征(206)所述增材材料的相分?jǐn)?shù)、相組成和電阻率；和
根據(jù)增材制造后的電阻率，考慮到通過表征確定的相分?jǐn)?shù)和相組成的影響，確定(208)所述增材材料的位錯密度。
10.權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中針對經(jīng)過熱處理(302)以將位錯密度降低至指定的最小值的增材材料校準(zhǔn)基線電阻率。
11.權(quán)利要求9-10中任一項所述的系統(tǒng)，其中通過所述處理器執(zhí)行的用于校準(zhǔn)基線電阻率的指令進一步包括確定(304)所述增材材料中的相分?jǐn)?shù)和相組成的指令。
12.權(quán)利要求9-10中任一項所述的系統(tǒng)，其中通過所述處理器執(zhí)行的用于校準(zhǔn)基線電阻率的指令進一步包括用于確定(306)空位和堆疊故障對電阻率的貢獻的指令。
13.權(quán)利要求9-10中任一項所述的系統(tǒng)，其中使用以下至少一種來確定所述增材材料的相分?jǐn)?shù)：
掃描電子顯微照片(142)；
光學(xué)顯微照片(144)；或
X射線衍射(146)。
14.權(quán)利要求9-10中任一項所述的系統(tǒng)，其中使用以下至少一種來確定所述增材材料的相組成：
電子色散光譜(152)；或
電感耦合等離子體光譜(154)。
15.權(quán)利要求9-10中任一項所述的系統(tǒng)，進一步包括配置為確定電阻率的多點接觸探針歐姆計(130)。
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