[發明專利]一種全封閉立式污水處理沉淀池

在審

• 申請號: 202010593607.0
• 申請日: 2020-06-27
• 公開（公告）號: CN111632408A
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 王寶良;占逵;彭江
• 申請（專利權）人: 河南澤衡環保科技股份有限公司
• 主分類號: B01D21/00
• 分類號: B01D21/00;B01D21/01;B01D21/02;B01D21/24;B01D21/30
• 代理公司: 鄭州匯科專利代理事務所(特殊普通合伙) 41147
• 代理人: 孫力文

本發明涉及污水處理領域，具體說是一種全封閉立式污水處理沉淀池，包括殼體、勻水機構、螺旋沉淀單元、溢流機構、排污機構和絮凝加藥機構，所述殼體的上方中部設置有穿過上蓋的污水進管，所述殼體內側壁內側同心設置有格擋網；所述勻水機構可拆卸設置于污水進管的出口下方的殼體內；所述螺旋沉淀單元固定設置于殼體的格擋網內；所述殼體中上部外側壁上固定設置有溢流機構；所述排污機構固定設置于殼體底部外側；所述絮凝加藥機構設置于殼體底部和所述中空支柱內，該污水處理沉淀池采用立式結構，占用空間較小，并且能夠實現自動均勻加藥、自動排泥，同時能夠定期實現沉淀池自動清洗，能夠有效保證沉淀池出水水質，顯著提高污水沉淀效果。

技術領域

本發明涉及污水處理領域，具體說是一種全封閉立式污水處理沉淀池。

背景技術

污水處理為使污水達到排入某一水體或再次使用的水質要求對其進行凈化的過程。污水處理被廣泛應用于建筑、農業、交通、能源、石化、環保、城市景觀、醫療、餐飲等各個領域，也越來越多地走進尋常百姓的日常生活。

污水處理設備中，沉淀池是一種較為常見的污水處理設施，沉淀池是應用沉淀作用去除水中懸浮物的一種構筑物，凈化水質的設備。利用水的自然沉淀或混凝沉淀的作用來除去水中的懸浮物。現有的污水處理沉淀池在實際使用中暴露除了諸多缺點，比如，現有沉淀池大多為占用空間較大，造成污水處理廠可用面積的較大浪費；另外，正確投加絮凝劑是沉淀池運行管理的關鍵之一，目前沉淀池的絮凝劑加藥大多為單點投放，加藥不均勻，并且不能根據水質參數改變加藥量，加藥的靈活性較差，甚至時常出現斷藥情況的發生，因為即使短時期停止加藥了也會導致出水水質的惡化；并且，及時排泥是沉淀池運行管理中極為重要的工作，污水處理中的沉淀池中所含污泥量較多，有絕大部分為有機物，如不及時排泥，就會產生厭氧發酵，致使污泥上浮，不僅破壞了沉淀池的正常工作，而且使出水質惡化，現有沉淀池排泥大多需要沉淀池停工后進行，并且大多為人工憑經驗進行定時排泥，經常出現排泥不夠及時，沉淀池自動化程度較低；另外，沉淀池長時間運行后，沉淀池的清洗工作變得非常困難，實際應用中，沉淀池的清洗工作幾乎很少進行，進一步降低了沉淀池的出水水質，因此，如何克服上述存在的技術問題和缺陷成為重點需要解決的問題。

發明內容

本發明的發明目的在于克服背景技術中所描述的缺陷，從而實現一種全封閉立式污水處理沉淀池，該污水處理沉淀池采用立式結構，占用空間較小，并且能夠實現自動均勻加藥、自動排泥，同時能夠定期實現沉淀池自動清洗，能夠有效保證沉淀池出水水質，顯著提高污水沉淀效果。

為實現上述發明目的，本發明的技術方案是：一種全封閉立式污水處理沉淀池，包括殼體、勻水機構、螺旋沉淀單元、溢流機構、排污機構和絮凝加藥機構，所述殼體頂部設置有可拆卸的上蓋；所述殼體的上方中部設置有穿過上蓋的污水進管，所述殼體內側壁內側同心設置有格擋網，所述格擋網和殼體內壁之間形成清水腔，所述殼體底部設置有殼體支腿；所述勻水機構可拆卸設置于污水進管的出口下方的殼體內，所述勻水機構用于污水緩沖和分配；所述螺旋沉淀單元固定設置于殼體的格擋網內，且螺旋沉淀單元包括螺旋沉淀板和頂部密封的中空支柱，所述螺旋沉淀板螺旋纏繞固定設置于中空支柱的外圍，螺旋沉淀板的外徑與格擋網的內徑匹配，所述螺旋沉淀單元底端延伸至殼體內腔底部，所述中空支柱的下部側壁上開設有與其內腔連通的排污通孔；所述殼體中上部外側壁上固定設置有溢流機構，所述溢流機構下部與殼體內部的清水腔連通；所述排污機構固定設置于殼體底部外側，且排污機構與中空支柱底部內腔連通，用于將中空支柱內的沉淀物抽出；所述絮凝加藥機構設置于殼體底部和所述中空支柱內，用于向殼體內腔中注入絮凝劑，加速污水絮凝沉淀，另外，控制部分設置常規的電控機構實現自動控制，排污機構和絮凝加藥機構等的動作均受電控機構集中控制。

進步一地，所述格擋網的上部為不透水的筒狀隔板，下部為直徑相同的筒狀隔網，上部為不透水的筒狀隔板的目的在于殼體頂部剛剛進入的污水還未充分與絮凝劑混合，細小雜質容易穿過網狀物，格擋網上部為筒狀隔板，當污水向下沿著螺旋沉淀板沉淀一段后，水中細小雜質較少，格擋網下部為直徑相同的筒狀隔網，在不影響清水外滲的前提下，可以阻擋絮凝后的雜質。