[發明專利]清洗設備和物料的清洗方法

在審

• 申請號: 202010592643.5
• 申請日: 2020-06-25
• 公開（公告）號: CN111842350A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 左國軍;談麗文;邱瑞;成旭;李雄朋;任金枝
• 申請（專利權）人: 常州捷佳創精密機械有限公司
• 主分類號: B08B9/023
• 分類號: B08B9/023;B08B9/032
• 代理公司: 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343
• 代理人: 尚志峰;王淑梅

1.一種清洗設備，其特征在于，包括：

框架，所述框架內設置有至少一個第一清洗室；

系統管路，設于所述框架；

支撐架，設于所述第一清洗室，用于放置物料；

清洗系統，所述清洗系統的部分設于所述第一清洗室內，與所述系統管路相連接；

所述清洗系統包括：

第一噴淋組件，位于所述支撐架的上方，所述第一噴淋組件的部分可旋轉的設于所述第一清洗室內。

2.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征在于，所述第一噴淋組件包括：

旋轉管路，設于所述系統管路，所述旋轉管路可進行旋轉；

至少一條第一支線管路，所述支線管路設于所述旋轉管路，所述第一支線管路連接在所述旋轉管路的側壁；

電機，設于所述第一清洗室的頂壁外側；

傳動組件，所述傳動組件一端與所述電機的轉軸相連接，另一端與所述旋轉管路相連接。

3.根據權利要求2所述的清洗設備，其特征在于，所述第一支線管路包括：

橫向管路，與所述旋轉管路相連接；

第一縱向管路，設于所述橫向管路的管壁，位于所述橫向管路的末端，所述第一縱向管路包括至少一個第一噴頭；

第二縱向管路，設于所述橫向管路的管壁，所述第二縱向管路包括至少一個第二噴頭；

第三縱向管路，設于所述橫向管路的管壁，所述二縱向管路位于所述第一縱向管路和所述第三縱向管路之間，所述第三縱向管路包括至少一個第三噴頭；

其中，所述第一縱向管路、所述第二縱向管路和所述第三縱向管路的延伸方向相同或不同，且所述第一縱向管路的長度大于所述第二縱向管路的長度，所述第二縱向管路的長度大于所述第三縱向管路的長度。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的清洗設備，其特征在于，所述支撐架腳踏包括：

底板，所述底板包括多條由中部位置向周側延伸的滑道，相鄰的所述滑道之間鏤空設置；

卡碼，可滑動地設置在所述滑道上；

限位件，設于所述卡碼，每個所述卡碼上均設置有所述限位件。

5.根據權利要求4所述的清洗設備，其特征在于，所述清洗系統還包括：

第二噴淋組件，設于所述底板，位于所述底板的中部位置，所述第二噴淋組件包括至少一個第四噴頭；

第三噴淋組件，位于所述底板的周側的上方，所述第三噴淋組件立設于所述第一清洗室的內，所述第三噴淋組件包括至少一個立式噴淋管路，所述立式噴淋管路立設于所述第一清洗室，所述立式噴淋管路的側壁包括至少一個第五噴頭。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的清洗設備，其特征在于，所述框架包括：

主體，所述第一清洗室位于所述主體內；

排液槽，位于所述主體的底部；

第一清洗室門，設于所述主體，用于開啟或關閉所述第一清洗室；

第二清洗室，設于所述主體，位于所述第一清洗室的一側，所述第二清洗室的容積小于所述第一清洗室；

電控柜，設于所述主體；

控制面板，設于所述主體，與所述電控柜電連接，用于控制所述清洗系統的工作狀態；

所述清洗系統還包括：

第四噴淋組件，設于所述第一清洗室，位于所述第一清洗室門的上方，所述第四噴淋組件包括至少一個臥式噴淋管，所述臥式噴淋管橫架于所述第一清洗室門的上方，所述臥式噴淋管包括至少一個朝向所述第一清洗室門的第六噴頭。

7.根據權利要求1至3中任一項所述的清洗設備，其特征在于，還包括：

噴槍室，設于所述框架；

噴槍，放置于所述噴槍室內，與所述系統管路相連接。

8.根據權利要求2或3所述的清洗設備，其特征在于，第一噴淋組件還包括：

第二支線管路，設于旋轉管路背離系統管路的一端，第二支線管路包括至少一個第七噴頭。