[發明專利]一種應用于植入醫療器械的醫用涂層及其制備方法有效
| 申請號: | 202010591251.7 | 申請日: | 2020-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN111632205B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發明(設計)人: | 石培國;姜培齊;宋國安 | 申請(專利權)人: | 北京華鉭生物科技開發有限公司 |
| 主分類號: | A61L31/08 | 分類號: | A61L31/08;A61L31/02;A61L31/14;A61L31/16;A61L31/18;C23C14/34;C23C14/16;C23C14/06;C22C14/00;C22C27/02 |
| 代理公司: | 北京中索知識產權代理有限公司 11640 | 代理人: | 隋曉勇 |
| 地址: | 102600 北京市大興區中關村科技園區大興*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 應用于 植入 醫療器械 醫用 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,包括鈦-釔涂層、氮化鈦-釔的合金層、鉭-釔涂層、鉭-鋅-銀涂層四層,所述鈦-釔涂層涂覆在所述植入醫療器械基材的外層,所述氮化鈦-釔的合金層涂覆在鈦-釔涂層的外層,所述鉭-釔涂層涂覆在氮化鈦-釔的合金層的外層;所述鉭-鋅-銀涂層涂覆在鉭-釔涂層的外層。
2.根據權利要求1所述的一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,所述鉭-鋅-銀涂層替換為鉭-鎂-銀涂層。
3.根據權利要求1或2所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,所述鈦-釔涂層厚度為100nm-1500nm,所述鈦-釔涂層中鈦、釔的質量百分數分別為90%、10%。
4.根據權利要求1或2所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,所述氮化鈦-釔的合金層厚度為50nm-1500nm。
5.根據權利要求1或2所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,所述鉭-釔涂層厚度為50nm-500nm,所述鉭-釔涂層中鉭、釔的質量百分數分別為93%、7%。
6.根據權利要求1所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,所述鉭-鋅-銀涂層厚度為50nm-1000nm,所述鉭-鋅-銀涂層中鉭、鋅、銀的質量百分數分別為92%、5%、3%。
7.根據權利要求2所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層,其特征在于,所述鉭-鎂-銀涂層厚度為50nm-1000nm,所述鉭-鎂-銀涂層中鉭、鎂、銀的質量百分數分別為92%、5%、3%。
8.權利要求1所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層的制備方法,其特征在于,所述鈦-釔涂層用99.999%的鈦和釔高純靶材進行真空濺射,形成厚度為100nm-1500nm的鈦-釔金屬薄膜涂層;所述鈦-釔涂層中鈦、釔的質量百分數分別為90%、10%;
所述氮化鈦-釔的合金層用99.999%的鈦和釔的高純靶材進行真空濺射,在其沉積過程中混入高純氮氣,形成厚度為50nm-500nm的氮化鈦-釔金屬薄膜;
所述鉭-釔涂層用99.999%的鉭和釔的高純靶材,進行真空濺射,形成厚度為50nm-500nm的鉭-釔金屬薄膜,所述鉭-釔涂層中鉭、釔的質量百分數分別為93%、7%;
所述鉭-鋅-銀涂層用99.999%的鉭、鋅和銀的高純靶材,進行真空濺射,形成厚度為50nm-1000nm的鉭-鋅-銀金屬薄膜,所述鉭-鋅-銀涂層中鉭、鋅、銀的質量百分數分別為92%、5%、3%。
9.權利要求2所述一種應用于植入醫療器械的醫用涂層的制備方法,其特征在于,所述鈦-釔涂層用99.999%的鈦和釔高純靶材進行真空濺射,形成厚度為100nm-1500nm的鈦-釔金屬薄膜涂層;所述鈦-釔涂層中鈦、釔的質量百分數分別為90%、10%;
所述氮化鈦-釔的合金層用99.999%的鈦和釔的高純靶材進行真空濺射,在其沉積過程中混入高純氮氣,形成厚度為50nm-500nm的氮化鈦-釔金屬薄膜;
所述鉭-釔涂層用99.999%的鉭和釔的高純靶材,進行真空濺射,形成厚度為50nm-500nm的鉭-釔金屬薄膜,所述鉭-釔涂層中鉭、釔的質量百分數分別為93%、7%;
所述鉭-鎂-銀涂層用99.999%的鉭、鎂和銀的高純靶材,進行真空濺射,形成厚度為50nm-1000nm的鉭-鎂-銀金屬薄膜,所述鉭-鎂-銀涂層中鉭、鎂、銀的質量百分數分別為92%、5%、3%。
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