[發明專利]一種反射成像便攜式指紋照相裝置

在審

• 申請號: 202010588077.0
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN111596505A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 陳進;周盛斌;楊奔;張福源;王棟;王毓;黃勤建;王克宇;段堅;王澤龍;楊攀;金帥
• 申請（專利權）人: 無錫市科德科技有限公司
• 主分類號: G03B17/17
• 分類號: G03B17/17;G03B15/03;G06K9/00
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 顧陽

本發明提供了一種反射成像便攜式指紋照相裝置，其操作方便，體積小，不僅可實現明場和暗場照相，且可減弱甚至消除客體背景圖案的干擾，獲得質量較高的指紋圖像；其包括箱體及開設于所述箱體上的照相孔，所述箱體內設有光源總成、分光鏡，所述光源總成包括光源，所述光源發出的光透射過所述分光鏡形成照明光路，位于所述照明光路末端的所述箱體上開設有用于照射指紋客體的檢材孔，位于所述檢材孔處的所述指紋客體被照射后反射的光經所述分光鏡反射形成成像光路，所述成像光路上設置具有反光功能的光學元件，所述照相孔設置于經所述光學元件反射后的光路末端的所述箱體上。

技術領域

本發明涉及法庭科學技術領域，具體為一種反射成像便攜式指紋照相裝置。

背景技術

照相是指紋及其他痕跡物證檢驗工作中的重要環節，若在現場或檢材上發現可見指紋、經過物理或化學法處理后的指紋，都要盡快照相記錄，以防指紋消褪或被意外破壞；配光照相是通過選擇白光光源或其他波長的光源，并通過改變照明光線入射角度和方向來調整控制檢材反射光的亮度分布，以增強指紋紋線與客體背景圖案的反差，減弱或消除客體背景圖案的干擾，其中，配光照相的方法多樣，對于光滑非滲透性、半滲透性平面客體表面附著的指紋，最常用的明場照相是定向反射照相，最常用的暗場照相是暗視場照相，而在不同現場中，指紋及其客體的種類和條件各不相同，也需要選擇不同的配光方法才可有效顯現指紋紋線和細節特征，但是，不同配光裝置往往用途單一，例如，指紋照相中常用的定向反射鏡裝置，就只能做明場的定向反射照相；暗視場配光裝置，就只能做暗視場照相，另外，現有的配光裝置及其附屬的遮光部件尺寸較大，不僅單人操作困難，而且現場勘查時由于空間、光線等環境條件復雜多變而難以使用，不易達到良好效果。對于使用定向反射配光裝置獲得指紋的明場圖像，當相機鏡頭離指紋客體距離較遠，即成像光路的光程較長時，指紋紋線與客體背景的反差較大，背景圖案干擾較小，指紋顯現質量較好，但裝置高度必須較高，難以小型化；對于指紋的暗視場照相，通常采用位于相機鏡頭旁邊的點光源照明，有時指紋邊緣有光源的反射亮斑干擾指紋紋線顯現，或者指紋呈現一側紋線較亮另一側紋線較暗的情況，缺乏一種無亮斑干擾、紋線照度均勻、反差較好的暗場照相裝置。

因此，將配光設備集成到一個小型化便攜式裝置中，以實現指紋的各種明場和暗場照相，減弱背景圖案干擾，獲得質量較高的指紋圖像，對于現場指紋的照相固定提取具有十分重要的意義。

發明內容

針對上述問題，本發明提供了一種反射成像便攜式指紋照相裝置，其操作方便，體積小，不僅可實現明場和暗場照相，且可減弱甚至消除客體背景圖案的干擾，獲得質量較高的指紋圖像。

其技術方案是這樣的：一種反射成像便攜式指紋照相裝置，包括箱體及開設于所述箱體上的照相孔，所述箱體內設有光源總成、分光鏡，所述光源總成包括光源，其特征在于：所述光源發出的光透射過所述分光鏡形成照明光路，位于所述照明光路末端的所述箱體上開設有用于照射指紋客體的檢材孔，位于所述檢材孔處的所述指紋客體被照射后反射的光經所述分光鏡反射形成成像光路，所述成像光路上設置具有反光功能的光學元件，所述照相孔設置于經所述光學元件反射后的光路末端的所述箱體上。

進一步地，所述箱體內還設有聚光鏡、成像物鏡，所述聚光鏡設置于所述光源與所述分光鏡之間的所述照明光路上，所述成像物鏡設置于所述分光鏡與所述照相孔之間的所述成像光路上；

進一步地，所述聚光鏡與所述光源之間的光學距離與所述聚光鏡的焦距相同，所述光學元件采用第一反光鏡，所述成像物鏡設置于所述分光鏡與第一反光鏡之間，且所述分光鏡、第一反光鏡均與所述成像物鏡的光軸呈45°夾角設置；

進一步地，所述照相孔設置于所述第一反光鏡正上方的所述箱體上，所述檢材孔設置于所述箱體的底部，所述檢材孔的正上方設置所述分光鏡，所述分光鏡上方所述照明光路上依次設置所述聚光鏡和光源；