[發(fā)明專利]照明裝置及曝光系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010585503.5 | 申請日: | 2020-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN111781802A | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張柯;張雷;李偉成 | 申請(專利權)人: | 蘇州源卓光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215026 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 照明 裝置 曝光 系統(tǒng) | ||
一種照明裝置,包括:至少一個第一類光源,配置為產生波長在第一范圍的第一類光束;至少一個準直透鏡,配置為對所述第一類光束進行準直;第一類勻光組件,配置為對所述第一類光束進行勻光處理;第二類光源,配置為產生波長在第二范圍的第二類光束;第二類勻光組件,配置為對所述第二類光束進行勻光處理;光混合組件,配置為將經過勻光處理的第一類光束和第二類光束進行混合處理;光偏轉件,配置為將經過混合處理的第一類光束和第二類光束按預設角度進行偏轉。本發(fā)明的有益效果是將兩類光源產生的光束進行混合,在保證光能充足的情況下改善阻焊油墨的感光反應。
技術領域
本發(fā)明涉及一種直寫光刻技術領域,具體涉及一種照明裝置及一種曝光系統(tǒng)。
背景技術
隨著直寫曝光技術的不斷發(fā)展,直寫光刻機在印制電路板的曝光處理工藝中日趨占據主導地位。直寫光刻機應用數字光處理技術通過直接曝光的方式將圖形轉印到涂覆有油墨的基板上,具有適應性廣、工藝時間短、成本低的優(yōu)勢。在圖形的轉印過程中,油墨的感光效果決定著印制電路板的性能,而油墨的種類很多,其感光特性也各有區(qū)別。目前市面上應用較多的阻焊油墨,其對短波范圍(波長在350nm-400nm之間)的光束感應較佳,而當前直寫光刻機主要采用波長為405nm的半導體激光(LD)光源,導致阻焊油墨的感光反應不佳,無法滿足日益提高的應用需求;除此之外,也出現了一些直寫光刻機采用多波段組合的純LED光源,但由于LED光能量較小,且目前沒有顯著提高LED光源能量利用率的方法,導致多波段LED光源進行光刻時速度很慢,難以滿足大規(guī)模快速量產;而極少部分采用多波段紫外激光器,需要多個短波激光器,成本太高。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種多波段組合的照明裝置及曝光系統(tǒng)以克服或減少現有技術中存在的上述問題或缺陷。
為實現上述目標,本發(fā)明采用如下的技術方案:
一種照明裝置,包括:至少一個第一類光源,配置為產生波長在350nm-395nm之間的第一類光束;與所述至少一個第一類光源一一對應的至少一個準直透鏡,配置為對所述第一類光束進行準直處理;第一類勻光組件,配置為對經過準直處理的所述第一類光束進行勻光處理;至少一個第二類光源,配置為產生波長在400nm-430nm之間的第二類光束;第二類勻光組件,配置為對所述第二類光束進行勻光處理;光混合組件,配置為對經過勻光處理的第一類光束和第二類光束進行混合處理;光偏轉件,配置為將經過混合處理的第一類光束和第二類光束按預設角度進行偏轉。
優(yōu)選的,所述至少一個第一類光源包括第一LED光源和第二LED光源,所述第一LED光源產生波長為350nm-375nm的第一類光束,所述第二LED光源產生波長為375nm-395nm的第一類光束。
優(yōu)選的,所述第一LED光源產生波長為365nm的第一類光束,所述第二LED光源產生波長為385nm的第一類光束。
優(yōu)選的,所述第一LED光源為單個LED燈珠或呈陣列排布的多個LED燈珠,所述第二LED光源為單個LED燈珠或呈陣列排布的多個LED燈珠。
優(yōu)選的,所述至少一個第二類光源包括激光光源,所述激光光源產生波長為405nm的第二類光束。
優(yōu)選的,所述光混合組件包括至少一個第一類二向色鏡,用于對經過準直處理的所述第一類光束進行混合以形成第一類混合光束。
優(yōu)選的,其特征在于,所述第一類勻光組件包括一個復眼透鏡組,用于對所述第一類混合光束進行勻光以形成第一類均勻混合光束。
優(yōu)選的,其特征在于,所述第一類勻光組件包括至少一個復眼透鏡組,用于對經過準直處理的所述第一類光束進行勻光以形成第一類均勻光束。
優(yōu)選的,所述光混合組件包括至少一個第一類二向色鏡,用于為對所述第一類均勻光束進行混合以形成第一類均勻混合光束。
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