[發明專利]一種多層電荷存儲層的制備方法

在審

• 申請號: 202010584801.2
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN111653615A
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發明（設計）人: 湯振杰
• 申請（專利權）人: 安陽師范學院
• 主分類號: H01L29/40
• 分類號: H01L29/40;H01L21/288
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種多層電荷存儲層的制備方法，其特征在于具體步驟如下：

a)將Si襯底置于無水乙醇和丙酮的混合溶液中，超聲清洗去除襯底表面的雜質，然后將襯底置于氫氟酸稀溶液中，去除襯底表面的氧化物，然后將利用熱氧化的方法在Si襯底表面氧化一層SiO₂作為隧穿層，厚度在2nm至4nm范圍內取值；

b)將ZrO₂溶膠滴在SiO₂作為隧穿層表面，勻膠機的轉速為每分鐘6000轉，旋涂時間在5分鐘至10分鐘范圍內取值，勻膠機襯底臺溫度為室溫，形成第一層ZrO₂溶膠膜；

c)緊接著將Al₂O₃溶膠滴在第一層ZrO₂溶膠膜上面，繼續旋涂勻膠機的轉速為每分鐘6000轉，旋涂時間在5分鐘至10分鐘范圍內取值，勻膠機襯底臺溫度為室溫，形成第一層Al₂O₃溶膠膜；

d)將ZrO₂溶膠滴在第一層Al₂O₃溶膠膜表面，勻膠機的轉速為每分鐘6000轉，旋涂時間在5分鐘至10分鐘范圍內取值，勻膠機襯底臺溫度為室溫，形成第二層ZrO₂溶膠膜；

e)將Al₂O₃溶膠滴在第二層ZrO₂溶膠膜表面，勻膠機的轉速為每分鐘6000轉，旋涂時間在5分鐘至10分鐘范圍內取值，勻膠機襯底臺溫度為室溫，形成第二層Al₂O₃溶膠膜；

f)升高勻膠機襯底臺溫度至150℃，進行原位烘烤，烘烤時間在30分鐘至60分鐘范圍內取值，得到多層電荷存儲層；

g)利用脈沖激光沉積系統在存儲層沉積一層SiO₂薄膜作為阻擋層，厚度在10nm至15nm范圍內取值；

h)利用磁控濺射沉積系統在存儲層表面沉積一層金屬鋁作為上電極，厚度在100nm至150nm范圍內取值，將導電銀膠涂覆在Si襯底背面作為下電極，形成具有多層電荷存儲層的電荷陷阱存儲器件。

2.如權利要求1所述的一種溶膠凝膠法制備非易失性存儲器件的方法，其特征在于利用溶膠凝膠法在隧穿層表面順序旋涂多層ZrO₂和Al₂O₃溶膠膜，通過烘烤的方法形成多層電荷存儲層。

3.如權利要求1所述的溶膠凝膠法制備具有多層電荷存儲層的電荷陷阱存儲器件在信息存儲中的應用。