[發明專利]一種基于壓電陶瓷精密位移的激光調阻方法

有效

• 申請號: 202010584733.X
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN111687544B
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發明（設計）人: 陳勇;王曉勇;吳修娟;王蕾;張濤;李勤濤
• 申請（專利權）人: 南京工業職業技術學院
• 主分類號: B23K26/38
• 分類號: B23K26/38;B23K26/70
• 代理公司: 蕪湖思誠知識產權代理有限公司 34138
• 代理人: 房文亮

1.一種基于壓電陶瓷精密位移的激光調阻方法，其特征在于，包括光束整形頭（3）、壓電陶瓷位移模塊（6）和脈沖激光器（4），所述脈沖激光器（4）與光束整形頭（3）連接，所述壓電陶瓷位移模塊（6）設于光束整形頭（3）內，所述光束整形頭（3）內設有準直鏡片（5），所述準直鏡片（5）用于保證入射光可以整形成為平行光，所述壓電陶瓷位移模塊（6）用于控制準直鏡片（5）位移；

所述光束整形頭（3）內還設有壓電陶瓷控制電路，所述壓電陶瓷控制電路包括第一光耦（101）、第二光耦（102）、第一三極管（103）和第二三極管（104），所述第一光耦（101）通過第一三極管（103）連接壓電陶瓷，所述第二光耦（102）通過第二三極管（104）連接壓電陶瓷；

所述激光調阻方法包括：

一、將正在調阻的片狀電阻（9）連接上高精密快速電橋，在進行激光調阻過程中不斷通過高精密快速電橋實時檢測片狀電阻（9）的阻值變化；

二、輸入端SP輸入高電平，輸入端ST輸入低電平，第一光耦（101）控制壓電陶瓷位移模塊（6）正向位移，帶動準直鏡片（5）的正向移動；

三、輸入端ST輸入高電平，輸入端SP輸入低電平，通過第二光耦（102）控制壓電陶瓷位移模塊（6）反向位移，帶動準直鏡片（5）的反向移動；

四、當片狀電阻（9）的阻值達到要求的電阻精度時，激光調阻結束；

所述第一三極管（103）的集電極和發射極上并聯有第一二極管（105），所述第二三極管（104）的集電極和發射極上并聯有第二二極管（106），所述第一三極管（103）的集電極與第二三極管（104）的發射極相連，所述壓電陶瓷位移模塊（6）連接在第一三極管（103）的集電極上，所述光束整形頭（3）通過固定軸（2）固定連接在支架（1）上，所述支架（1）上還設有移動平臺（8），所述片狀電阻（9）放置在移動平臺（8）上。

2.根據權利要求1所述的一種基于壓電陶瓷精密位移的激光調阻方法，其特征在于：所述光束整形頭（3）的底部還設有保護鏡片（7），保護鏡片（7）用于激光調阻時產生的蒸汽不會損傷光束整形頭（3）。

3.根據權利要求1所述的一種基于壓電陶瓷精密位移的激光調阻方法，其特征在于：所述光束整形頭（3）內部為真空環境。