[發(fā)明專利]一種推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010584723.6
• 申請日: 2020-06-24
• 公開（公告）號: CN111595324A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 樸林華;王育新;樸然;李美櫻;王燈山
• 申請（專利權(quán)）人: 北京信息科技大學(xué)
• 主分類號: G01C19/58
• 分類號: G01C19/58
• 代理公司: 北京邦創(chuàng)至誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11717
• 代理人: 張宇鋒

1.一種推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，包括敏感層和蓋板，其中，

所述敏感層的上表面設(shè)置有呈矩形結(jié)構(gòu)的一對加熱器和一對熱敏電阻，敏感層的下表面刻蝕有一長方體凹槽；

定義所述長方體凹槽的兩臂方向分別為X，Y方向，敏感層的高度方向為Z向；所述加熱器和所述熱敏電阻的放置方向均為與X或Y方向平行或者垂直；用于檢測Z軸的角速度；

加熱器放置于敏感層上表面矩形結(jié)構(gòu)Y方向的兩側(cè)，熱敏電阻放置于敏感層上表面矩形結(jié)構(gòu)X方向的兩側(cè)，加熱器與熱敏電阻相互垂直；

加熱器的通電方式為周期式推挽式通電，即加熱器的一個工作周期包括脈沖電壓激勵時間與斷電間隔時間；

所述蓋板上刻蝕有凹槽，且與敏感層的上表面密閉連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，每對所述加熱器均由兩個相同頻率的方波信號驅(qū)動，相位差為90度，脈沖占空比為50％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述長方體凹槽的外邊沿大于上表面加熱器和熱敏電阻的外輪廓。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述長方體凹槽的高度為整個敏感層高度的2/3至3/4。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述敏感層上表面至所述蓋板上凹槽頂部的距離為氣體介質(zhì)工作腔體高度，高度為200μm至1000μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述敏感層上表面的所述加熱器和熱敏電阻的高度為15μm至20μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述加熱器和所述熱敏電阻的長度一致，均為整個敏感層寬度的1/6至1/5。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述加熱器均是由具有高溫度系數(shù)的TaN材料電阻線構(gòu)成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的推挽流式微機(jī)械Z軸薄膜陀螺，其特征在于，所述熱敏電阻均是由n型重?fù)诫sGaAs材料電阻線構(gòu)成。