[發(fā)明專利]一種反應(yīng)堆容器的下腔室結(jié)構(gòu)及反應(yīng)堆容器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010582708.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111681786B | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田健;王允;張金紅;周翀;傅瑤;鄒楊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G21C13/024 | 分類號(hào): | G21C13/024;G21C13/02;G21C3/54 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 薛琦;鄒玲 |
| 地址: | 201800 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 反應(yīng)堆 容器 下腔室 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種反應(yīng)堆容器的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,其包括堆芯支撐底板、所述反應(yīng)堆容器下封頭和反應(yīng)堆下腔室入口;所述堆芯支撐底板和所述反應(yīng)堆容器下封頭合圍形成一下腔室空間;
所述下腔室結(jié)構(gòu)還包括位于所述堆芯支撐底板下方的流量分配板圓板;
所述流量分配板圓板與所述堆芯支撐底板平行固接;
所述流量分配板圓板的徑向?qū)挾刃∮谒龆研局蔚装宓膹较驅(qū)挾龋?/p>
所述流量分配板圓板的徑向?qū)挾却笥诘扔谒龆研局蔚装迳戏植加锌椎膱A形區(qū)域的直徑、且不與所述反應(yīng)堆容器下封頭內(nèi)部接觸;
所述反應(yīng)堆下腔室入口設(shè)于所述流量分配板圓板下方區(qū)域的所述反應(yīng)堆容器下封頭上;
所述下腔室結(jié)構(gòu)還包括位于所述流量分配板圓板正下方的、與所述流量分配板圓板平行固接的流量分配板上開孔圓板,所述流量分配板上開孔圓板位于所述下腔室空間中,所述流量分配板上開孔圓板設(shè)有通孔;
所述下腔室結(jié)構(gòu)還包括位于所述流量分配板上開孔圓板正下方的、與所述流量分配板上開孔圓板平行固接的流量分配板下開孔圓板,所述流量分配板下開孔圓板位于所述下腔室空間中,所述流量分配板下開孔圓板設(shè)有通孔;
所述堆芯支撐底板對(duì)應(yīng)所述反應(yīng)堆容器的堆芯液態(tài)燃料通道位置開設(shè)有穿孔;
所述堆芯支撐底板上的所述穿孔的整體排列方式為若干圈同心多邊形由中心向周邊輻射排列;
所述反應(yīng)堆下腔室入口的內(nèi)徑為0.05D-0.1D,D是指所述堆芯支撐底板上分布有孔的圓形區(qū)域的直徑;
所述反應(yīng)堆下腔室入口設(shè)于所述反應(yīng)堆容器下封頭的底部中心位置處;
所述流量分配板圓板的上表面與所述堆芯支撐底板的下表面的垂直距離為0.02D-0.1D;
所述流量分配板圓板的直徑為D-1.2D;
所述流量分配板圓板和所述堆芯支撐底板共軸線。
2.如權(quán)利要求1所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述反應(yīng)堆下腔室入口的內(nèi)徑為0.075D。
3.如權(quán)利要求1所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,
所述流量分配板圓板的厚度為1-4cm。
4.如權(quán)利要求1所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板圓板的上表面與所述堆芯支撐底板的下表面的垂直距離為0.05D。
5.如權(quán)利要求3所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板圓板的厚度為2cm。
6.如權(quán)利要求1所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板圓板的直徑為1.05D。
7.如權(quán)利要求1所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板上開孔圓板的通孔位于所述流量分配板上開孔圓板的中心處。
8.如權(quán)利要求7所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述通孔的徑向?qū)挾葹?-1.5倍所述反應(yīng)堆下腔室入口的內(nèi)徑。
9.如權(quán)利要求8所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述通孔的徑向?qū)挾葹?.2倍所述反應(yīng)堆下腔室入口的內(nèi)徑。
10.如權(quán)利要求1所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板上開孔圓板的厚度為0.5-1倍所述流量分配板圓板的厚度;
和/或,所述流量分配板上開孔圓板不與所述反應(yīng)堆容器下封頭內(nèi)部接觸;
和/或,所述流量分配板圓板的下表面與所述流量分配板上開孔圓板的上表面的垂直距離為0.01D-0.05D。
11.如權(quán)利要求10所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板上開孔圓板的厚度為0.5倍所述流量分配板圓板的厚度。
12.如權(quán)利要求10所述的下腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述流量分配板上開孔圓板的邊緣與所述反應(yīng)堆容器下封頭內(nèi)部的間隙寬度為0.01D-0.04D,D是指所述堆芯支撐底板上分布有孔的圓形區(qū)域的直徑。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010582708.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種適用于針形茶制備的加工工藝
- 下一篇:一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





