[發(fā)明專利]薄膜的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010580125.1 | 申請日: | 2020-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN112225171A | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 粕谷仁一;多田一成;水町靖 | 申請(專利權(quán))人: | 柯尼卡美能達(dá)株式會社 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00;G02B1/11;G02B1/18 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳蘊(yùn)輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 制造 方法 | ||
本發(fā)明的課題在于提供一種薄膜的制造方法,在薄膜上形成圖案時,能夠防止應(yīng)用的掩模部件在干蝕刻時的掩模的磨損或缺損,并且能夠以高精度形成具有微細(xì)結(jié)構(gòu)的細(xì)孔的薄膜。本發(fā)明的薄膜的制造方法是具有細(xì)孔的薄膜的制造方法,其特征在于,在基板上形成薄膜之后,在該薄膜上依次層疊至少由自組織化材料構(gòu)成的第一掩模和與所述第一掩模相比對反應(yīng)性蝕刻處理或物理蝕刻處理具有耐性的第二掩模,通過干蝕刻處理在所述薄膜上形成細(xì)孔。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜的制造方法,更詳細(xì)地說,涉及使用耐蝕刻性優(yōu)異的第一掩模以及第二掩模且具有高品質(zhì)的細(xì)孔的薄膜的制造方法。
背景技術(shù)
近年來,作為車輛的駕駛輔助,在車輛上搭載車載攝像頭。更具體地說,將對車輛的后方、側(cè)方進(jìn)行拍攝的攝像頭搭載于汽車的車身,通過將由該攝像頭拍攝到的圖像顯示在駕駛員能夠目視確認(rèn)的位置來減少死角,由此能夠有助于安全駕駛。
然而,車載攝像頭大多安裝在車外,對于所使用的透鏡,對耐環(huán)境性的保證要求嚴(yán)格。例如,當(dāng)作為位于透鏡表面的防反射層的主成分的二氧化硅(以下,記為SiO2)溶解于鹽水而使得光反射率發(fā)生變化時,成為重影、光斑的產(chǎn)生原因。
另外,在該透鏡上常常附著水滴、泥等污垢。根據(jù)附著于透鏡的水滴的程度,由攝像頭拍攝到的圖像有可能變得不清晰。因此,要求防反射層的最表層能夠長期維持超親水性。
并且,對于泥等污垢,防反射層優(yōu)選體現(xiàn)光催化效果并具有自清潔性。
為了解決這些問題,例如,在日本特開平10-36144號公報中,如下的方法是已知的:制作基板/電介質(zhì)多層膜(防反射層)/TiO2含有層(光催化劑層)/SiO2含有層的層疊體,在SiO2層上形成金屬掩模之后,通過蝕刻法在SiO2層上開設(shè)原子水平的孔,形成用于將來自TiO2含有層的光催化功能取出到表面的通孔(以下,“也稱為細(xì)孔”)。例如,作為用于在SiO2層上形成特定圖案的方法的掩模的形成方法,不需要特定的曝光,作為使用真空蒸鍍裝置形成微細(xì)結(jié)構(gòu)的掩模的方法,使用自組織化膜的方法是已知的。例如,有如下方法:作為金屬成分而使用銀,在SiO2層上形成具有顆粒狀、葉脈狀或多孔狀的圖案的金屬掩模,從金屬掩模上表面實施干蝕刻處理,從而在SiO2層中形成用于取出TiO2含有層的光催化功能的通孔。
但是,在上述方法中,由于大多數(shù)金屬掩模的耐蝕刻性低,因此,在蝕刻處理時,存在金屬掩模受到損傷、蝕刻精度降低、難以形成具有所希望的形狀的通孔的問題。
針對上述問題,例如,在專利文獻(xiàn)1中,公開了使用通過嵌段共聚物的自組織化而得到的蝕刻掩模的圖案形成方法。另外,在專利文獻(xiàn)2中,也公開了作為掩模而使用能夠自組織化的嵌段聚合物-共聚物的第一聚合物以及第二聚合物來形成周期圖案的方法。
但是,在上述公開的任一種方法中,為了形成所希望的微細(xì)結(jié)構(gòu),針對掩模的蝕刻處理的耐性不夠,在形成高品質(zhì)的通孔方面存在問題。
因此,希望開發(fā)一種耐蝕刻性優(yōu)異且不需要曝光工藝就能夠以高精度形成微細(xì)結(jié)構(gòu)的掩模技術(shù)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2008-43873號公報
專利文獻(xiàn)2:日本特開2013-207089號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
本發(fā)明鑒于上述問題和狀況而作出,其要解決的課題在于提供一種薄膜的制造方法,在薄膜上形成圖案時,能夠防止應(yīng)用的掩模部件在干蝕刻時的掩模的磨損或缺損,并且能夠以高精度制造具有微細(xì)結(jié)構(gòu)的細(xì)孔的薄膜。
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