[發(fā)明專利]Ka波段低剖面寬帶高增益環(huán)形圓柱介質(zhì)諧振器天線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010580022.5
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號(hào): CN111710979B
• 公開（公告）日: 2023-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于兵;鄧健;蘇鵬;賈洪川;劉沁沁;鞠劉娟
• 申請（專利權(quán)）人: 南京信息工程大學(xué)
• 主分類號(hào): H01Q9/04
• 分類號(hào): H01Q9/04;H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q13/10
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 湯金燕

1.一種Ka波段低剖面寬帶高增益環(huán)形圓柱介質(zhì)諧振器天線，其特征在于，包括介質(zhì)基板、矩形金屬導(dǎo)電帶、金屬片、螺旋縫隙、圓柱形介質(zhì)諧振器、介質(zhì)圓環(huán)、和圓柱形凹槽；

所述矩形金屬導(dǎo)電帶貼合在介質(zhì)基板的下表面，介質(zhì)基板的上表面設(shè)置中心刻有螺旋縫隙的金屬片，所述圓柱形介質(zhì)諧振器貼合在螺旋縫隙的中心，所述圓柱形介質(zhì)諧振器的頂部中心處設(shè)置圓柱形凹槽，所述金屬片上添加一層介質(zhì)圓環(huán)，所述介質(zhì)圓環(huán)將圓柱形介質(zhì)包圍在其中心；

輻射主源位于圓柱形介質(zhì)諧振器內(nèi)，激發(fā)的次級(jí)源被困在介質(zhì)圓環(huán)內(nèi)；圓柱形介質(zhì)諧振器的尺寸決定了諧振頻率和腔內(nèi)激發(fā)的模，并且隨著輻射，波沖擊到介質(zhì)圓環(huán)并被困在介質(zhì)圓環(huán)中作為駐波，在這種情況下，環(huán)場分布取決于來自圓柱形介質(zhì)諧振器的沖擊波的波前；電場矢量集中于圓柱形介質(zhì)處并向水平方向以及垂直方向向外輻射，向水平方向輻射的電場接觸到介質(zhì)圓環(huán)后，其中一小部分沿介質(zhì)圓環(huán)內(nèi)表面往垂直方向上下流動(dòng)，另一部分反射回來與圓柱形介質(zhì)上的電場矢量疊加后再產(chǎn)生輻射，垂直方向受四分之一波長寬度的控制，以最小化波在介質(zhì)圓環(huán)外傳播。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ka波段低剖面寬帶高增益環(huán)形圓柱介質(zhì)諧振器天線，其特征在于，所述螺旋縫隙為平面等角螺旋縫隙。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ka波段低剖面寬帶高增益環(huán)形圓柱介質(zhì)諧振器天線，其特征在于，所述矩形金屬導(dǎo)電帶的耦合端采用六邊形結(jié)構(gòu)。