[發明專利]裝飾材料及其制備方法和電子設備

在審

• 申請號: 202010579396.5
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN113046687A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 羅富華;馬蘭;劉晨岑;劉玉陽
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種裝飾材料，其特征在于，包括：

基體；

過渡層，所述過渡層設置在所述基體的一側；

顏色層，所述顏色層設置在所述過渡層遠離所述基體的一側；

連接層，所述連接層設置在所述顏色層遠離所述過渡層的一側；

鍍膜層，所述鍍膜層設置在所述連接層遠離所述顏色層的一側；

所述鍍膜層包括依次層疊設置的多層子鍍膜層，多層所述子鍍膜層中靠近所述連接層的子鍍膜層為第一子鍍膜層，所述第一子鍍膜層的熱膨脹系數為3×10^-6/K -6×10^-6/K，所述連接層的熱膨脹系數為5×10^-6/K -10×10^-6/K，且所述第一子鍍膜層的熱膨脹系數小于所述連接層的熱膨脹系數。

2.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述過渡層、所述顏色層和所述連接層均為物理氣相沉積鍍層，所述鍍膜層為不導電電鍍鍍層。

3.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述連接層的材料包括二氧化硅，所述第一子鍍膜層的材料包括二氧化硅。

4.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，多層所述子鍍膜層包括高折射率子鍍膜層和低折射率子鍍膜層，所述高折射率子鍍膜層和所述低折射率子鍍膜層交替設置；

優選地，所述高折射率子鍍膜層的折射率≥2.0；所述低折射率子鍍膜層的折射率＜2.0。

5.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述過渡層、所述顏色層與所述連接層的熱膨脹系數呈逐漸減小的變化趨勢；

優選地，所述過渡層、所述顏色層和所述連接層的總厚度為1μm-4μm；

優選地，所述過渡層的厚度為100nm-1000nm，所述顏色層的厚度為1μm-3μm，所述連接層的厚度為20nm-300nm。

6.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述過渡層包括依次層疊設置的第一過渡層和第二過渡層，所述第二過渡層設置在所述第一過渡層遠離所述基體的一側；

優選地，所述第一過渡層的厚度為30nm-50nm，所述第二過渡層的厚度為50nm-900nm；

優選地，所述第一過渡層、所述第二過渡層與所述顏色層的膨脹系數呈逐漸減小的變化趨勢；

優選地，所述第一過渡層為金屬層，所述第二過渡層為金屬硅化物層，所述顏色層為金屬碳硅化物層和/或金屬氮硅化物層；

進一步優選地，所述第一過渡層包括Ti層、Cr層和W層中的至少一種，所述第二過渡層包括TiSi層、CrSi層和WSi層中的至少一種，所述顏色層包括TiSiC層、CrSiC層、WSiC層、TiSiN層、CrSiN層和WSiN層中的至少一種。

7.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述鍍膜層還包括功能層，所述功能層設置在所述第一子鍍膜層遠離所述連接層的一側；

優選地，所述功能層的厚度為10-50nm；

優選地，所述功能層包括金層、銀層、銅層、鋁層、銦層、錫層、銦錫合金層和銀鋁合金層中的至少一種。

8.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述裝飾材料還包括防指紋層，所述防指紋層設置在所述鍍膜層遠離所述連接層的一側。

9.根據權利要求1所述的裝飾材料，其特征在于，所述基體的材料包括鋁合金和/或鎂合金。