[發明專利]一種基于復合陷光結構的單晶PERC太陽能電池在審
| 申請號: | 202010577841.4 | 申請日: | 2020-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN113903824A | 公開(公告)日: | 2022-01-07 |
| 發明(設計)人: | 何飛;徐小萍 | 申請(專利權)人: | 江蘇晶旺新能源科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/077 | 分類號: | H01L31/077;H01L31/0352;H01L31/0216;B82Y30/00;B82Y20/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 225600 江蘇省揚*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 復合 結構 perc 太陽能電池 | ||
本發明公開了太陽能電池技術領域的一種基于復合陷光結構的單晶PERC太陽能電池,包括硅片及位于硅片表面的復合陷光結構,所述復合陷光結構包括金屬納米顆粒層,所述金屬納米顆粒層上依次層疊有前電極層、氧化硅(SiO)薄膜層、SiNx薄膜層、P?I?N層、石墨烯/TiO納米顆粒層、背反射層、背電極層,通過在電池上設置了氧化硅(SiO2)薄膜層和SiNx薄膜層雙層介質膜,提高了電池的短路電流,通過設置述石墨烯/TiO2納米顆粒層能夠快速使電子和空穴分離,抑制暗電流的產生,通過設置前電極層、P?I?N層、背反射層、背電極層提高太陽光吸收效率。
技術領域
本發明涉及建筑裝修技術領域,具體為一種基于復合陷光結構的單晶PERC太陽能電池。
背景技術
太陽能電池,指的是可以有效吸收太陽能,并將其轉化成電能的半導體部件,用半導體硅﹑硒等材料將太陽的光能變成電能的器件,具有可靠性高﹐壽命長﹐轉換效率高等優點﹐可做人造衛星﹑航標燈﹑晶體管收音機等的電源,單體電池尺寸從1×1厘米至15.6×15.6厘米,輸出功率為數十豪瓦至數瓦,它的理論光電轉換效率為25%以上,實際已達到22%以上,現有的太陽能電池反射效果不佳,影響太陽光的吸收,并且晶體硅太陽能電池光電轉化效率不高,比如電池表面光反射損失,光傳導損失等情況,為了能夠提高反射光的利用率,為此,我們提供一種基于復合陷光結構的單晶PERC太陽能電池。
發明內容
本發明的目的在于提供一種基于復合陷光結構的單晶PERC太陽能電池,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種基于復合陷光結構的單晶PERC太陽能電池,包括硅片及位于硅片表面的復合陷光結構,所述復合陷光結構包括金屬納米顆粒層,所述金屬納米顆粒層上依次層疊有前電極層、氧化硅(SiO)薄膜層、SiNx薄膜層、P-I-N層、石墨烯/TiO納米顆粒層、背反射層、背電極層。
進一步地,所述背電極層上焊接有陰極接線和陽極接線,在所述前電極層上有均勻間隔的第一條激光刻線。
進一步地,所述第二條激光刻線均勻刻劃穿透P-I-N層和背反射層,所述第二條激光刻線刻劃方向與第一條激光刻線方向平行,且與第一條激光刻線的右側壁沿的距離0.90~1.06nm。
進一步地,所述P-I-N層由P-SiC薄膜層、I-a-Si:H薄膜層和N-a-Si:H薄膜層組成。
進一步地,所述氧化硅(SiO)薄膜層是利用干-濕-干熱氧化在硅片背面生長。
進一步地,所述背反射層為三維大孔有序的摻鋁氧化鋅薄膜光子晶體。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:
1、通過在電池上設置了氧化硅(SiO2)薄膜層和SiNx薄膜層雙層介質膜,利用電暈的方法埋入電荷,形成一外加電池,提高了電池的短路電流,并且在氧化硅(SiO2)薄膜層上沉積和SiNx薄膜層保證實現電荷在介質層中存儲的穩定性,SiNx薄膜層對單晶硅太陽能電池也起到了很好的鈍化作用。
2、所述石墨烯/TiO2納米顆粒層中的石墨烯和一維納米材料(如納米線,納米管等)具有優良的電子傳輸性,通過設置述石墨烯/TiO2納米顆粒層能夠快速使電子和空穴分離,抑制暗電流的產生。
附圖說明
圖1為本發明結構示意圖;
圖2為本發明P-I-N層結構示意圖;
圖中:1、硅片;2、金屬納米顆粒層;3、前電極層;4、氧化硅(SiO2)薄膜層;5、SiNx薄膜層;6、P-I-N層;61、P-SiC薄膜層;62、、I-a-Si:H薄膜層;63、N-a-Si:H薄膜層;7、石墨烯/TiO2納米顆粒層;8、背反射層;9、背電極層;10、第一條激光刻線;11、第二條激光刻線;13、陽極接線;14、陰極接線。
具體實施方式
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇晶旺新能源科技有限公司,未經江蘇晶旺新能源科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010577841.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:光學特性檢測裝置及其制造方法
- 下一篇:一種高通量生物分子濃度檢測裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





