[發(fā)明專利]一種Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法及其應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010577774.6 | 申請日: | 2020-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN111519157A | 公開(公告)日: | 2020-08-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬冠水;汪愛英;王振玉;郭鵬;李昊 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/32;C23C14/18;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/58 |
| 代理公司: | 寧波元為知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33291 | 代理人: | 趙興華 |
| 地址: | 315201 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cr al max 涂層 制備 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,利用電弧離子鍍沉積與磁控濺射沉積,將Cr元素單質(zhì)靶作為電弧靶,Al元素單質(zhì)靶作為直流濺射靶,碳?xì)錃怏w作為反應(yīng)氣體在基體表面進(jìn)行沉積,然后進(jìn)行熱處理制得;其特征是:
首先,利用電弧離子鍍沉積,在基體表面沉積Cr-C層,并且所述Cr-C層厚度為0.5μm~5μm;
然后,利用磁控濺射沉積,在Cr-C層表面沉積Al層,得到Al\Cr-C涂層;
最后,進(jìn)行熱處理,得到具有(103)晶面擇優(yōu)取向的Cr-Al-C系MAX相涂層。
2.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:基體表面首先進(jìn)行刻蝕處理,然后進(jìn)行Cr-Al-C系MAX相涂層制備。
3.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:所述Cr-C層厚度為1μm~3μm。
4.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:在沉積Cr-C層的過程中,其他條件相同的情況下,通過控制沉積時(shí)間控制Cr-C層的厚度;或者,其他條件相同的情況下,通過控制陰極電弧靶的電流控制Cr-C層的厚度。
5.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:沉積Cr-C層時(shí),陰極電弧靶的電流為50A~100A。
6.如權(quán)利要求5所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:沉積Cr-C層時(shí),陰極電弧靶的電流為65A~90A。
7.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:沉積Cr-C層時(shí),基體的偏壓為-100V~-200V。
8.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:Al層的厚度為1μm~3μm。
9.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:沉積Al層時(shí),磁控濺射靶的靶功率為2.0kW~3.0kW,基體的偏壓為-100V~-200V,沉積腔室氣壓為10~20mTorr。
10.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:熱處理溫度為400℃~550℃,時(shí)間為24h~100h。
11.如權(quán)利要求1所述的Cr-Al-C系MAX相涂層的制備方法,其特征是:所述基體材料包括Al、Ti或者不銹鋼。
12.一種基體表面的導(dǎo)電耐腐蝕Cr-Al-C系MAX相涂層,其特征是:利用權(quán)利要求1-11中任一權(quán)利要求所述的制備方法制得。
13.一種用于質(zhì)子交換膜燃料電池的不銹鋼雙極板,其特征是:所述不銹鋼雙極板表面具有涂層,所述涂層利用權(quán)利要求1-11中任一權(quán)利要求所述的制備方法制得。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





