[發(fā)明專利]可調(diào)控光學(xué)模態(tài)的雷射結(jié)構(gòu)的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010577650.8 | 申請日： | 2020-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN112993749A | 公開（公告）日： | 2021-06-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊英杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 元光科技股份有限公司 |
| 主分類號： | H01S5/183 | 分類號： | H01S5/183;H01S5/187 |
| 代理公司： | 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113 | 代理人： | 何為;袁穎華 |
| 地址： | 中國臺灣臺北市信*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 調(diào)控 光學(xué) 雷射 結(jié)構(gòu) 制造 方法 | ||
1.一種可調(diào)控光學(xué)模態(tài)的雷射結(jié)構(gòu)的制造方法，其至少包含下列步驟：
步驟一：在一基板上以蒸鍍、濺鍍或磊晶法成長一第一分布式布拉格反射鏡；
步驟二：在該第一分布式布拉格反射鏡上以蒸鍍、濺鍍或磊晶法成長一發(fā)光層；
步驟三：在該發(fā)光層上以蒸鍍、濺鍍或磊晶法成長一第二分布式布拉格反射鏡；以及
步驟四：在該第二分布式布拉格反射鏡上以蒸鍍、濺鍍或磊晶法成長單層或多層介電質(zhì)以形成一第三分布式布拉格反射鏡，并在該第三分布式布拉格反射鏡中央或周圍區(qū)域經(jīng)選擇性蝕刻出一開口結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的可調(diào)控光學(xué)模態(tài)的雷射結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，所述基板為半導(dǎo)體基板。
3.如權(quán)利要求1所述的可調(diào)控光學(xué)模態(tài)的雷射結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，所述步驟四形成的該第三分布式布拉格反射鏡的介電質(zhì)晶層數(shù)目介于1-20之間。
4.如權(quán)利要求1所述的可調(diào)控光學(xué)模態(tài)的雷射結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，所述步驟四在該第三分布式布拉格反射鏡中央?yún)^(qū)域被選擇性蝕刻的開口結(jié)構(gòu)的直徑范圍介于2-15μm之間。
5.如權(quán)利要求1所述的可調(diào)控光學(xué)模態(tài)的雷射結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，所述第三分布式布拉格反射鏡的介電質(zhì)晶層由氮化硅、氧化硅、氧化鋁、氧化鋅、或氧化鎂的一種或幾種組成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于元光科技股份有限公司，未經(jīng)元光科技股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010577650.8/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
