[發明專利]背光源、顯示基板及顯示裝置

在審

• 申請號: 202010577340.6
• 申請日: 2020-06-23
• 公開（公告）號: CN111708220A
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 尹炳坤;劉廣輝
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

1.一種背光源，其特征在于，所述背光源包括一基板和至少一光源，其中：

所述基板包括中心區域和位于所述中心區域外圍的至少一邊緣區域，并且所述基板在其厚度方向上具有一連續的第一表面和一連續的第二表面，所述第一表面的在所述邊緣區域內具有至少一光入射面；

所述光源與所述光入射面相對或相接觸，以通過所述光入射面向所述基板提供光線；

由所述光源提供的光線經光入射面進入所述基板并經所述基板的引導由所述第二表面均勻射出。

2.如權利要求1所述的背光源，其特征在于，所述背光源還包括一反射層，所述反射層覆蓋于所述基板的除所述第二表面和所述光入射面之外的其它表面上。

3.如權利要求2所述的背光源，其特征在于，所述第一表面在所述邊緣區域內具有一第一偏折面，所述第一偏折面為由所述第一表面在所述邊緣區域內偏離所述中心區域所在表面而形成的表面；

所述第一偏折面被配置為使入射至所述第一偏折面光線發生偏折，并且所述第一偏折面的至少部分區域用于所述光入射面。

4.如權利要求3所述的背光源，其特征在于，所述第一偏折面為由所述第一表面在所述邊緣區域內朝向所述第二表面偏離所述中心區域所在表面而形成的表面；

所述背光源通過光學介質在所述第一偏折面上形成一與所述基板的形狀互補的填充空間，所述光源設置在所述填充空間內；

所述反射層還覆蓋于所述填充空間的背離所述第一偏折面的表面上。

5.如權利要求4所述的背光源，其特征在于，所述第一偏折面為一傾斜面.所述填充空間為與所述基板互補的楔形空間。

6.如權利要求1所述的背光源，其特征在于，所述第二表面在所述邊緣區域內具有一第二偏折面，所述第二偏折面為由所述第二表面在所述邊緣區域內偏離所述中心區域所在表面而形成的表面并被配置為使所述基板內的入射至所述第二偏折面的光線發生偏折并射出；

所述光入射面在所述基板的正投影落入所述第二偏折面在所述基板的正投影范圍內。

7.如權利要求4所述的背光源，其特征在于，所述第二偏折面為一傾斜面。

8.如權利要求1所述的背光源，其特征在于，所述基板在所述第一表面的除所述光入射面以外的其他區域內設置有多個反射網點，所述反射網點的分布密度沿著遠離所述光入射面的方向變大。

9.如權利要求1所述的背光源，其特征在于，所述背光源還包括位于所述第二表面上的光學層組，其中所述光學層組包括設置于所述第二表面上的至少一擴散層以及位于所述擴散層背離所述基板的表面上的至少一棱鏡層。

10.如權利要求9所述的背光源，其特征在于，所述光學膜層還包括一光學基底層，所述光學基底層位于所述基板的所述第二表面上并覆蓋所述第二表面；

所述擴散層為包覆于所述光學基底層內的擴散網點層，所述棱鏡層為包覆于所述光學基底層內的棱鏡結構層；

所述基板的具有第一折射率a，所述反射層和所述棱鏡層具有第二折射率b，所述光學基底層具有第三折射率c，則a、c及b滿足以下關系：bac。

11.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括權利要求1-10中任一項所述的背光源以及設置于所述基板的背離所述光源的表面上的一功能層，所述功能為薄膜晶體管層或濾光層中的至少一層。

12.如權利要求11所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板還包括一偏光層，所述偏光層位于所述功能層背離所述背光源的一側。

13.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求1-10中任一項所述的背光源，或者，權利11-12中任一項所述的顯示基板。