[發明專利]金屬靶盤、陽極靶盤以及X射線管

在審

• 申請號: 202010576232.7
• 申請日: 2020-06-22
• 公開（公告）號: CN111710583A
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 楊小明
• 申請（專利權）人: 北京智束科技有限公司
• 主分類號: H01J35/10
• 分類號: H01J35/10;H01J35/26
• 代理公司: 北京萬思博知識產權代理有限公司 11694
• 代理人: 劉冀

1.一種金屬靶盤(10)，包括：相對于所述金屬靶盤(10)的軸線傾斜設置的靶面(110)，用于接受電子束轟擊并產生X射線；與所述靶面(110)鄰接的正表面(120)；以及與所述正表面(120)相對設置的背表面(130)，其特征在于，還包括：

配重槽(140)，所述配重槽(140)圍繞所述金屬靶盤的軸線設置；以及

配重塊(150)，所述配重塊(150)設置于所述配重槽(140)內，并且能夠在所述配重槽(140)內移動。

2.根據權利要求1所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，所述配重槽(140)設置于所述正表面(120)。

3.根據權利要求2所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，所述配重槽(140)以所述金屬靶盤(10)的中心為圓心，呈環形形狀設置。

4.根據權利要求1至3中任意一項所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，還包括：用于將所述配重塊(150)固定在所述配重槽(140)內的固定機構(160)。

5.根據權利要求4所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，所述固定機構(160)為螺絲，并且所述配重塊(150)設置有與所述螺絲對應的螺孔(151)。

6.根據權利要求1所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，所述配重槽(140)的橫截面的頂部的寬度小于所述配重槽(140)的橫截面的其他至少一個高度位置處的寬度。

7.根據權利要求1所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，所述配重槽(140)頂部設置有安裝豁口(141、142)。

8.根據權利要求5所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，所述配重塊(150)包括第一配重塊(152)和第二配重塊(153)，其中所述第一配重塊(152)設置有第一凹槽，所述第二配重塊(153)設置有與所述第一凹槽對應的第二凹槽，所述第一凹槽的內表面設置有第一螺紋，所述第二凹槽的內表面設置有與所述第一螺紋對應的第二螺紋。

9.一種陽極靶盤(20)，包括權利要求1至8中任意一項所述的金屬靶盤(10)，其特征在于，還包括設置于所述金屬靶盤(10)的石墨材料(210)。

10.一種X射線管，其特征在于，包括權利要求9或10所述的陽極靶盤(20)。