[發明專利]一種網格圖形統一尺寸的方法、存儲介質及計算機設備有效
| 申請號: | 202010576089.1 | 申請日: | 2020-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN111752088B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 何大權;陳翰;張辰明 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/36 | 分類號: | G03F1/36 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
| 地址: | 201315*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 網格 圖形 統一 尺寸 方法 存儲 介質 計算機 設備 | ||
1.一種網格圖形統一尺寸的方法,其特征在于,包括,
選擇第一目標圖形,其中,所述第一目標圖形包括若干個第一寬度圖形線和若干個第二寬度圖形線,所述第一寬度圖形線的線寬和所述第二寬度圖形線的線寬滿足以下第一關系式:
a=b+G,
上述第一關系式中的a為所述第一寬度圖形線的線寬、b為所述第二寬度圖形線的線寬、G為圖形尺寸精度;
所述第一寬度圖形線垂直于所述第二寬度圖形線;定義水平方向為第一方向,定義垂直于所述第一方向的方向為第二方向;定義平行于所述第二方向的所述第一寬度圖形線為第一圖形線,定義平行于所述第一方向的所述第二寬度圖形線為第二圖形線;
根據所述第一目標圖形中圖形線的交叉點及所述第二寬度圖形線,通過以下步驟將至少一個所述第二寬度圖形線的線寬擴增至所述第一寬度圖形線的線寬:
判斷所述第一目標圖形中是否存在所述第二圖形線,若不存在,則將所述第一目標圖形作為第三目標圖形,否則,執行以下步驟,
步驟S1:輸入所述第一目標圖形,從所述第一目標圖形中提取所述第一寬度圖形線和所述第二寬度圖形線,得到第一輸出圖形;將所述第一輸出圖形從所述第一目標圖形中去除,得到第一交叉點圖形;
步驟S2:提取所述第一輸出圖形中的所述第二圖形線得到第二輸出圖形;
步驟S3:合并所述第一交叉點圖形和所述第二輸出圖形,得到第三輸出圖形;
步驟S4:在所述第三輸出圖形中,根據所述第二圖形線與第一連接邊的連接關系,沿所述第二方向,往外擴展所述第二圖形線的上邊線和/或下邊線圖形尺寸精度大小,得到第四輸出圖形;其中,所述第一交叉點圖形與所述第二輸出圖形合并后與所述第二圖形線形成的臺階邊為所述第一連接邊;
步驟S5:合并所述第一目標圖形和所述第四輸出圖形,得到第二目標圖形;
步驟S6:判斷所述第二目標圖形中是否存在第五圖形線,若不存在,則將所述第二目標圖形作為第三目標圖形,所述第二圖形線的線寬調整完成,其中,所述第五圖形線由所述第二圖形線以及所述第四輸出圖形得到,且所述第五圖形線與所述第一圖形線滿足以下第二關系式:
c=a+G,
上述第二關系式中的a為所述第一圖形線的線寬、c為所述第五圖形線的線寬、G為所述圖形尺寸精度;
否則,提取第二目標圖中的所有所述第五圖形線,得到第五輸出圖形,沿所述第一方向,向下和向左收縮所述第五圖形線圖形尺寸精度大小,得到第六輸出圖形,并執行步驟S7;
步驟S7:去除所述第二目標圖形中的所述第五輸出圖形,并合并所述第六輸出圖形,得到第三目標圖形。
2.根據權利要求1所述的網格圖形統一尺寸的方法,其特征在于,所述第一連接邊垂直于所述第二圖形線的上邊線或垂直于所述第二圖形線的下邊線。
3.根據權利要求2所述的網格圖形統一尺寸的方法,其特征在于,所述第一連接邊的長度等于所述圖形尺寸精度。
4.根據權利要求1所述的網格圖形統一尺寸的方法,其特征在于,所述步驟S1中將所述第一輸出圖形從所述第一目標圖形中去除,得到第一交叉點圖形的方法包括,通過對所述第一輸出圖形進行邏輯非運算,得到所述第一交叉點圖形。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





