[發明專利]一種水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置及沉淀方法在審
| 申請號: | 202010575731.4 | 申請日: | 2020-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN111606442A | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發明(設計)人: | 劉衛龍;李醒偉;劉欣悅 | 申請(專利權)人: | 西安玉泉水處理設備有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/02 | 分類號: | C02F9/02 |
| 代理公司: | 西安銘澤知識產權代理事務所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 吳林 |
| 地址: | 710114 陜西省西安*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水力 分層 輻射 多層 懸浮 沉淀 裝置 方法 | ||
1.一種水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,包括:筒體(4),筒體(4)內設有:
進水管(1),進水管(1)的一端伸入筒體(4)內,并沿筒體(4)向上延伸,用于給筒體(4)內輸送待處理的污濁水;
多個倒立式傘狀沉淀裝置(5),固定在筒體(4)內,將筒體(4)內分隔為多層倒錐形沉淀空間,污濁水在多層錐形沉淀空間內沉淀污泥;
多個輻射流布水裝置(2),用于將污濁水輻射分布在多層倒錐形沉淀空間內,每層倒錐形沉淀空間內設置一個輻射流布水裝置(2),上下相鄰兩個輻射流布水裝置(2)依次連通,下部的輻射流布水裝置(2)與進水管(1)密封連通,上部的輻射流布水裝置(2)的頂部設有密封堵頭(7);
多個集泥導向裝置(3),每個倒立式傘狀沉淀裝置(5)和對應的輻射流布水裝置(2)之間設置一個集泥導向裝置(3),用于對倒錐形沉淀空間內的污泥進行導向,使得污泥下沉到筒體(4)內的底部;
排水管(11),設置在筒體(4)外壁的上部,位于上部倒立式傘狀沉淀裝置(5)的上方,用于排出污泥沉淀后的水;
排泥裝置(12),位于筒體(4)內的底部,連接排泥管,排泥管伸出筒體(4)外,用于排出沉淀在筒體(4)內底部的污泥。
2.如權利要求1所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述筒體(4)內上部設有隔板(13),隔板(13)位于密封堵頭(7)的上方,隔板的中部固定設有導流管(8),導流管(8)與筒體(4)內隔板(13)的下方相連通,隔板(13)上位于導流管(8)外還設有外套筒(9),外套筒(9)的高度低于導流管(8)的高度,導流管(8)與外套筒(9)之間形成一級曝氣區,外套筒(9)與筒體(4)的內壁之間形成二級曝氣區,排水管(11)與二級曝氣區相連通。
3.如權利要求2所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述外套筒(9)的頂部周向邊緣與筒體(4)的內壁之間固定設有多個水流切割曝氣溶氧裝置(10),用于對經過一級曝氣的水進行水流切割溶氧和二級曝氣。
4.如權利要求1所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述輻射流布水裝置(2)包括豎向管(2-1)和多個分流水管(2-2),多個分流水管(2-2)均勻布設在豎向管(2-1)的周向,且內端分別與豎向管(2-1)相連通,外端傾斜向上,豎向管(2-1)的下部設有管接頭(2-3),上下相鄰的兩個豎向管(2-1)之間通過管接頭(2-3)密封連接,位于筒體(4)內下部的輻射流布水裝置(2)通過管接頭(2-3)與進水管(1)的上端密封連接,密封堵頭(7)設置在上部豎向管(2-1)的上端。
5.如權利要求4所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述集泥導向裝置(3)包括外環板(3-2)、內環板(3-1)和均勻固定設置在外環板(3-2)和內環板(3-1)之間的多個連接桿(3-3),外環板(3-2)、內環板(3-1)和相鄰兩個連接桿(3-3)之間形成污泥導向口,內環板(3-1)固定套設在豎向管(2-1)上,內環板(3-1)位于多個分流水管(2-2)的上方,倒立式傘狀沉淀裝置(5)的下端固定在外環板(3-2)上。
6.如權利要求5所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述倒立式傘狀沉淀裝置(5)為上下兩端均開口的倒錐形體,倒錐形體的上端開口密封固定在筒體(4)的內壁上,倒錐形體的下端開口密封固定在外環板(3-2)上。
7.如權利要求6所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述倒錐形體靠近上端開口的周向側面上均勻布設有多個透水孔(6)。
8.如權利要求6所述的水力分層輻射流多層懸浮沉淀裝置,其特征在于,所述上下相鄰兩個倒錐形體之間的距離為5-30cm。
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