[發(fā)明專利]陣列基板及其制作方法、液晶顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010575268.3
• 申請日: 2020-06-22
• 公開（公告）號: CN113900293B
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張小祥;賈宜訸;李小龍;楊連捷;丁向前;宋勇志;付艷強(qiáng);張偉
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1362;G02F1/1343
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 尹璐

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

襯底基板；

薄膜晶體管陣列層，所述薄膜晶體管陣列層設(shè)置在所述襯底基板的一個表面上；

有機(jī)層，所述有機(jī)層設(shè)置在所述薄膜晶體管陣列層遠(yuǎn)離所述襯底基板的部分表面上，且在所述有機(jī)層中設(shè)置有至少一個透氣孔；和

鈍化層，所述鈍化層設(shè)置在所述有機(jī)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的表面上，且所述整層鈍化層覆蓋所述透氣孔的內(nèi)壁；

所述薄膜晶體管陣列層中具有間隔設(shè)置的多個薄膜晶體管，所述透氣孔在所述襯底基板上的正投影與所述薄膜晶體管的柵極在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述薄膜晶體管陣列層中還具有間隔設(shè)置的多條公共電極線，所述透氣孔在所述襯底基板上的正投影與所述公共電極線在所述襯底基板上的正投影中的至少部分重疊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述透氣孔包括第一孔和第二孔，所述第一孔在所述襯底基板上的正投影與所述薄膜晶體管在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊，所述第二孔在所述襯底基板上的正投影與所述公共電極線在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，滿足以下條件的至少之一：

所述第一孔的底部的寬度小于所述薄膜晶體管中的柵極的寬度；

所述第二孔的底部的寬度小于所述公共電極線的寬度。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，滿足以下條件的至少之一：

每個所述薄膜晶體管在所述襯底基板上的正投影與一個所述第一孔在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊；

每三個所述薄膜晶體管對應(yīng)于一個像素單元，對應(yīng)于每個所述像素單元的所述公共電極線在所述襯底基板上的正投影與一個所述第二孔在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，還包括：

像素電極層，所述像素電極層設(shè)置在所述薄膜晶體管陣列層和所述有機(jī)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的部分表面上；和

公共電極層，所述公共電極層設(shè)置在所述鈍化層遠(yuǎn)離所述襯底基板的部分表面上。

7.一種制作權(quán)利要求1～6中任一項所述的陣列基板的方法，其特征在于，包括：

在襯底基板的一個表面上形成薄膜晶體管陣列層；

在所述薄膜晶體管陣列層遠(yuǎn)離所述襯底基板的表面上形成預(yù)制膜層；

在所述預(yù)制膜層中形成至少一個透氣孔，得到有機(jī)層；

在所述有機(jī)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的表面上形成鈍化層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括：

在形成所述鈍化層之前，在所述薄膜晶體管陣列層和所述有機(jī)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的部分表面上形成像素電極層；

在所述鈍化層遠(yuǎn)離所述襯底基板的部分表面上形成公共電極層。

9.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求1～6中任一項所述的陣列基板。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板。