[發(fā)明專利]一種厚鉬板的蝕刻液及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010574570.7 | 申請(qǐng)日： | 2020-06-22 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111876781B | 公開（公告）日： | 2023-02-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王康;趙振剛;任柴 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 成都虹波實(shí)業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23F1/26 | 分類號(hào)： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 成都睿道專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51217 | 代理人： | 劉沁 |
| 地址： | 610100 四川省成都市*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 厚鉬板 蝕刻 及其 制備 方法 | ||
1.一種厚鉬板的蝕刻液，應(yīng)用于對(duì)厚鉬板的精密鏤空蝕刻，其特征在于：以體積計(jì)量，含有10％～15％的H2SO4、20％～35％的HNO3和5％～10％的含醚鍵有機(jī)添加劑，余量為H2O；
所述含醚鍵有機(jī)添加劑為脂肪醇聚氧乙烯醚和/或烷基酚聚氧乙烯醚。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚鉬板的蝕刻液，其特征在于：以體積計(jì)量，含有11％～14％的H2SO4、22％～32％的HNO3和6％～9％的含醚鍵有機(jī)添加劑，余量為H2O。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的厚鉬板的蝕刻液，其特征在于：以體積計(jì)量，含有12％～13％的H2SO4、25％～30％的HNO3和7％～8％的含醚鍵有機(jī)添加劑，余量為H2O。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的厚鉬板的蝕刻液，其特征在于：以體積計(jì)量，含有12.5％的H2SO4、27％的HNO3和7.5％的含醚鍵有機(jī)添加劑，余量為H2O。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚鉬板的蝕刻液，其特征在于：所述H2SO4的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為95％～98％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚鉬板的蝕刻液，其特征在于：所述HNO3的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為65％～68％。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚鉬板的蝕刻液，其特征在于：所述H2O為去離子水。
8.一種如權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的厚鉬板的蝕刻液的制備方法，其特征在于：制備步驟如下：
S1.量取H2O至配液容器；
S2.分次向配液容器加入H2SO4，并不斷攪拌；
S3.待溶液溫度降至室溫后，加入HNO3至配液容器，并不斷攪拌；
S4.待溶液溫度降至室溫后，加入含醚鍵有機(jī)添加劑至配液容器，并不斷攪拌。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的厚鉬板的蝕刻液的制備方法，其特征在于：步驟S2中，在加入H2SO4時(shí)，控制溶液溫度小于60℃。
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