[發明專利]一種高活性電解水用四元高熵泡沫及其制備方法

有效

• 申請號: 202010572610.4
• 申請日: 2020-06-22
• 公開（公告）號: CN111621808B
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 張旭海;呂宙;崔鵬;曾宇喬;鄭新健;蔣建清
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: C25B11/089
• 分類號: C25B11/089;C25B11/054;C25B11/03;C25B1/04;C25D3/56;B01J23/755;B01J35/10;B01J37/34
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 成立珍

1.一種高活性電解水用四元高熵泡沫，其特征在于，其成分由Cu、Ni、Co和Fe組成，其中Cu含量為23～27at％，Ni含量為23～27at％，Co含量為23～27at％，Fe含量為23～27at％；該高活性電解水用四元高熵泡沫中具有三維連通的微米孔，微米孔的孔徑在10～50um范圍內。

2.根據權利要求1所述的一種高活性電解水用四元高熵泡沫，其特征在于：所述的微米孔的孔壁由CuNiCoFe枝晶構成。

3.根據權利要求2所述的一種高活性電解水用四元高熵泡沫，其特征在于：所述的CuNiCoFe枝晶初次枝晶長度為2～3um，高次枝晶長度為5～10nm。

4.權利要求1-3中任意一項所述的一種高活性電解水用四元高熵泡沫的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)將工作電極置于CuSO₄ 、NiSO₄ 、CoSO₄ 、Fe₂(SO₄)₃ 、(NH₄)₂SO₄ 、Na₃C₆H₅O₇ 和H₃BO₃混合溶液中；

2)進行恒流電化學沉積；

所述步驟1)中，所述的CuSO₄濃度為0.003～0.070M，所述的NiSO₄的濃度為0.008～0.210M，所述的CoSO₄濃度為0.005～0.15M，所述的Fe₂(SO₄)₃ 的濃度為0.008～0.12M，所述的(NH₄)₂SO₄濃度為0.4～0.6M，所述的Na₃C₆H₅O₇濃度為0.2～0.4M，所述的H₃BO₃濃度為0.3～0.5M；

所述步驟2)中，所述的恒流沉積的電流密度為0.7～1.2A/cm² ，沉積時間為30～3000s。