[發明專利]高日光反射率陶瓷釉料、建筑節能型瓷質釉面磚及其制備方法

有效

• 申請號: 202010572175.5
• 申請日: 2020-06-22
• 公開（公告）號: CN111777331B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 張緹;柯善軍;馬超;田維
• 申請（專利權）人: 佛山歐神諾陶瓷有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/86
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 朱繼超

1.一種高日光反射率陶瓷釉料，其特征在于按重量份計包括如下原料組分：

鋁酸鹽 8~21份；

云母 15~36份；

白鎢礦 7~15份；

金紅石 8~16份；

硅酸鋰鋁 5~15份；

石英 3~5份；

改性劑 0.3~1.5份；

分散劑 0.5~2份；

所述改性劑選自納米二氧化鈦、玄武巖纖維、二氧化硅纖維中的至少一種。

2.根據權利要求1所述的一種高日光反射率陶瓷釉料，其特征在于：所述的鋁酸鹽選自鋁酸鈣、鋁酸鎂、鋁酸鋯、鋁酸鋇中的至少一種。

3.根據權利要求1所述的一種高日光反射率陶瓷釉料，其特征在于：所述云母選自絹云母、白云母、金云母、鋰云母、黑云母中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的一種高日光反射率陶瓷釉料，其特征在于：所述分散劑選自三聚磷酸鈉、三聚磷酸鉀、六偏磷酸鈉、聚偏磷酸鉀、焦磷酸鈉、焦磷酸鉀中的其中一種。

5.一種建筑節能型瓷質釉面磚，其特征在于：包括坯體層和設置于所述坯體層表面上的面釉層，所述面釉層為權利要求1~4任一項所述的高日光反射率陶瓷釉料。

6.一種如權利要求5所述的建筑節能型瓷質釉面磚的制備方法，其特征在于包括如下工藝步驟：

1）按重量份計將高日光反射率陶瓷釉料的各原料組分混合，采用濕法球磨混合球磨至細度為325目篩余0.3~0.6%，得高日光反射率陶瓷釉料；

2）在普通瓷質磚的坯體層上布施步驟1）所得的高日光反射率陶瓷釉料，形成面釉層，后經干燥，入窯高溫燒成，得成品。

7.根據權利要求6所述的一種建筑節能型瓷質釉面磚的制備方法，其特征在于：步驟2）中所述的高溫燒成的燒成溫度為1150~1200℃ 。