[發(fā)明專利]照片裁剪方法及裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010571640.3
• 申請日: 2020-06-19
• 公開（公告）號: CN111768416A
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發(fā)明（設計）人: 劉鵬
• 申請（專利權(quán)）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: G06T7/11
• 分類號: G06T7/11
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

1.一種照片裁剪方法，其特征在于，應用于電子設備，所述方法包括：

將待處理圖像經(jīng)過人像分割算法得到對應的掩膜圖像，所述掩膜圖像包括像素值為第一像素值的背景區(qū)域和像素值為第二像素值的人像區(qū)域；

根據(jù)所述掩膜圖像確定裁剪初始點；

通過所述掩膜圖像和所述待處理圖像合成待裁剪圖像，以所述裁剪初始點為起點，按照預設方向和預設尺寸裁剪所述待裁剪圖像得到目標圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過所述掩膜圖像和所述待處理圖像合成待裁剪圖像，包括：

將所述掩膜圖像與所述待處理圖像中對應像素點的值相乘，得到所述待裁剪圖像，所述待裁剪圖像的背景區(qū)域的像素值為所述第一像素值，所述待裁剪圖像的人像區(qū)域的像素值與所述待處理圖像中人像區(qū)域的像素值相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述掩膜圖像確定裁剪初始點，包括：

根據(jù)所述掩膜圖像確定所述裁剪初始點的縱坐標，所述裁剪初始點的縱坐標高于所述人像區(qū)域的最高縱坐標；

根據(jù)所述掩膜圖像確定所述裁剪初始點的橫坐標；

通過所述縱坐標和所述橫坐標確定所述裁剪初始點。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述掩膜圖像確定所述裁剪初始點的縱坐標，包括：

根據(jù)所述掩膜圖像確定人像區(qū)域的最高縱坐標；

判斷第一距離是否大于或者等于第一高度，所述第一距離為所述人像區(qū)域的最高縱坐標與所述人像區(qū)域的最高縱坐標上方掩膜圖像邊緣之間的垂直距離，所述第一高度為所述預設尺寸高度的第一倍數(shù)；

當判斷出所述第一距離大于或者等于所述第一高度時，確定所述裁剪初始點的縱坐標為所述人像區(qū)域的最高縱坐標與所述第一高度的和。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述判斷第一距離是否大于或者等于第一高度之后，所述方法還包括：

當判斷出所述第一距離小于所述第一高度時，在所述掩膜圖像中所述人像區(qū)域的上方以所述第一像素值增加第一區(qū)域，所述第一區(qū)域的高為第二高度，所述第一區(qū)域的寬與所述待處理圖像的寬度相同，所述第二高度大于所述第一高度；

確定所述裁剪初始點的縱坐標為所述人像區(qū)域的最高縱坐標與所述第一高度的和。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述判斷第一距離是否大于或者等于第一高度之后，所述方法還包括：

當判斷出所述第一距離小于所述第一高度時，在所述掩膜圖像中所述人像區(qū)域的上方以所述第一像素值增加第一區(qū)域，所述第一區(qū)域的高為第三高度，所述第一區(qū)域的寬與所述待處理圖像的寬度相同，所述第三高度為所述第一高度與所述第一距離之間的差值；

確定所述裁剪初始點的縱坐標為所述掩膜圖像的最高縱坐標。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述待處理圖像的人像區(qū)域上方增加第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的大小與所述第一區(qū)域相同。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述掩膜圖像確定所述裁剪初始點的橫坐標，包括：

確定水平基準線，所述水平基準線的縱坐標為第一縱坐標，所述第一縱坐標為所述人像區(qū)域的最高縱坐標與第三高度之間的差值，所述第三高度為所述預設尺寸高度的第二倍數(shù)；

根據(jù)所述水平基準線確定所述裁剪初始點的橫坐標。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述水平基準線確定所述裁剪初始點的橫坐標，包括：

獲取所述水平基準線上所述人像區(qū)域的中心點橫坐標；

判斷所述人像區(qū)域的中心點橫坐標是否大于預設尺寸寬度的一半；

當所述人像區(qū)域的中心點橫坐標大于所述預設尺寸寬度的一半時，確定所述裁剪初始點的橫坐標為所述人像區(qū)域的中心點橫坐標與所述預設尺寸寬度的一半之間的差值。