[發(fā)明專(zhuān)利]一種用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010571260.X | 申請(qǐng)日: | 2020-06-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111856231B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王銳;楊侃誠(chéng);王亞波;李建軍;莫軍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 廣芯微電子(廣州)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01R31/26 | 分類(lèi)號(hào): | G01R31/26;G01R31/28;H01L21/66;B08B1/00;B08B5/02 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 郭浩輝;麥小嬋 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 分析 濕氣 進(jìn)入 芯片 內(nèi)部 路徑 方法 | ||
1.一種用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法,其特征在于,包括步驟:
選取濕度可靠性測(cè)試失效芯片的晶圓;
收集所述晶圓的原始測(cè)試數(shù)據(jù),其中,所述原始測(cè)試數(shù)據(jù)包括原始工藝制程參數(shù)測(cè)試數(shù)據(jù)、原始晶圓級(jí)參數(shù)測(cè)試數(shù)據(jù);
對(duì)經(jīng)過(guò)高溫高濕試驗(yàn)后的所述晶圓進(jìn)行清潔;
收集清潔后的所述晶圓的試驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù),其中,所述試驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)包括原始工藝制程參數(shù)測(cè)試數(shù)據(jù)、試驗(yàn)晶圓級(jí)參數(shù)測(cè)試數(shù)據(jù);
根據(jù)所述原始測(cè)試數(shù)據(jù)與所述試驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)之間的差值的晶圓地圖判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑;
所述根據(jù)所述原始測(cè)試數(shù)據(jù)、所述試驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)的差值的晶圓地圖判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑,包括:
在所述晶圓地圖中,當(dāng)所述晶圓的容值差值或阻值差值由外到內(nèi)成逐漸減小分布時(shí),則判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑為:濕氣從芯片四周侵入芯片內(nèi)部。
2.如權(quán)利要求1所述的用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述原始測(cè)試數(shù)據(jù)、所述試驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)的差值的晶圓地圖判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑,包括:
在所述晶圓地圖中,當(dāng)所述晶圓的晶圓表面存在屬于設(shè)定隨機(jī)性圖形條件的缺陷圖形時(shí),則判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑為:濕氣從晶圓表面缺陷處侵入芯片內(nèi)部。
3.如權(quán)利要求1所述的用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述原始測(cè)試數(shù)據(jù)、所述試驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)的差值的晶圓地圖判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑,包括:
在所述晶圓地圖中,當(dāng)所述晶圓的晶圓表面存在屬于設(shè)定特殊圖形條件的圖形時(shí),則判斷濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部的路徑為:濕氣從晶圓的特定位置侵入芯片內(nèi)部。
4.如權(quán)利要求1所述的用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法,其特征在于,所述對(duì)經(jīng)過(guò)高溫高濕試驗(yàn)后的所述晶圓進(jìn)行清潔,具體為:
對(duì)進(jìn)行高溫高濕試驗(yàn)后的所述晶圓使用氮?dú)鈽尯兔⑦M(jìn)行清潔。
5.如權(quán)利要求1所述的用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法,其特征在于,所述高溫高濕試驗(yàn)的條件為:
溫度:130℃,相對(duì)濕度:85%RH,時(shí)間:96hrs。
6.如權(quán)利要求1所述的用于分析濕氣進(jìn)入芯片內(nèi)部路徑的方法,其特征在于,所述原始晶圓級(jí)參數(shù)測(cè)試數(shù)據(jù)包括所述晶圓在經(jīng)過(guò)高溫高濕試驗(yàn)前的漏電參數(shù)、時(shí)鐘頻率參數(shù);
所述試驗(yàn)晶圓級(jí)參數(shù)測(cè)試數(shù)據(jù)包括所述晶圓在經(jīng)過(guò)高溫高濕試驗(yàn)后的漏電參數(shù)、時(shí)鐘頻率參數(shù)。
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G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
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G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
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