[發明專利]一種鉭酸鋰薄膜波導聲光調制器有效
| 申請號: | 202010570977.2 | 申請日: | 2020-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN111708188B | 公開(公告)日: | 2023-09-26 |
| 發明(設計)人: | 溫旭杰;王少葳;華平壤;宋偉;崔坤;盧明達;徐佳俊;王旭 | 申請(專利權)人: | 中電科技德清華瑩電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/125 | 分類號: | G02F1/125;G02F1/00 |
| 代理公司: | 杭州賽科專利代理事務所(普通合伙) 33230 | 代理人: | 郭薇 |
| 地址: | 313000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鉭酸鋰 薄膜 波導 聲光 調制器 | ||
1.一種鉭酸鋰薄膜波導聲光調制器,其特征在于:由壓電材料、光波導和壓電換能器構成,所述光波導為LT薄膜光波導,所述壓電換能器為分離式叉指換能器,LT薄膜光波導設置在壓電材料上,分離式叉指換能器設置在LT薄膜光波導上,所述壓電材料其結構自下而上依次包括Si襯底、SiO2層和LT薄膜層,所述的LT薄膜光波導設置在LT薄膜層中,
所述的LT薄膜光波導在壓電材料上的制備過程為:
S1.鍍膜,選擇壓電材料,用PECVD鍍膜機在壓電材料的LT薄膜層的表面鍍一層100~150nm厚的SiO2膜;
S2.光刻,在LT薄膜層表面的SiO2膜上沉積一層負光膠,100~120℃下烘烤20~30分鐘;在負光膠上放置一塊光波導掩膜板,紫外光照射30~60秒;將樣品在顯影液中放置30~60秒進行顯影,除去未被照射的負光膠,然后在去離子水中漂洗干凈,100~120℃下烘烤8~12分鐘;用SiO2腐蝕液去除未被光刻膠覆蓋的SiO2膜,制作出間距為1~2μm的SiO2掩模;最后用除膠劑去除SiO2掩模上覆蓋的光刻膠;
S3.VPPE處理,將光刻后的樣品用丙酮或酒精清洗干凈,在100~120℃下烘烤5~10分鐘;在石英細頸瓶底部鋪一層苯甲酸粉末3~8g,然后把樣品放入細頸瓶中,瓶子中部的細頸可將樣品與苯甲酸隔開;將石英細頸瓶豎直放入恒溫槽中,然后在320~350℃下密封處理8~10個小時,
所述的分離式叉指換能器的制備過程為:
S1.將VPPE處理后的樣品用丙酮或酒精清洗干凈,在100~120℃下烘烤5~10分鐘;
S2.在做完光波導的LT薄膜層的表面利用正光膠,通過對準套刻方式制作出壓電換能器的圖形,100~120℃下烘烤2~10分鐘;
S3.用電子束真空蒸鍍機在做完壓電換能器圖形的LT薄膜層的表面鍍一層500~700nm厚的Pt薄膜層;
S4.將鍍膜后的樣品放入丙酮或NMP溶劑中,剝離掉多余的Pt薄膜層,制作出Pt金屬層的壓電換能器,并清洗干凈。
2.根據權利要求1所述的一種鉭酸鋰薄膜波導聲光調制器,其特征在于:所述的壓電材料為Y42-LTOI材料結構。
3.根據權利要求1所述的一種鉭酸鋰薄膜波導聲光調制器,其特征在于:?Si襯底的厚度為400~1000μm,SiO2層的厚度為400~600nm,LT薄膜層的厚度為500~1000nm。
4.根據權利要求1所述的一種鉭酸鋰薄膜波導聲光調制器,其特征在于:所述LT薄膜層中均勻分布的每個LT薄膜光波導寬度為1~2μm,厚度與LT薄膜層一致。
5.根據權利要求1所述的一種鉭酸鋰薄膜波導聲光調制器,其特征在于:所述的分離式叉指換能器厚度為500~700nm,間距為20~40μm。
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