[發(fā)明專利]一種含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液及其制備方法和應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010570937.8 | 申請日： | 2020-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN111748285A | 公開（公告）日： | 2020-10-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫韜;陳騰飛;張澤芳 | 申請（專利權(quán)）人： | 寧波日晟新材料有限公司;上海工程技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 寧波知坤專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33312 | 代理人： | 李小偉 |
| 地址： | 315410 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 含高鐵酸鹽 碳化硅 拋光 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述碳化硅拋光液由研磨劑顆粒、高鐵酸鹽、雙氧水、硝酸和去離子水組成，且所述碳化硅拋光液pH值為1～7。
2.如權(quán)利要求1所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述研磨劑顆粒為氧化硅、氧化鋁、氧化鈰、氧化鈰、氧化錳、氧化鎂、碳化硅、碳化硼、鉆石中的一種或多種物質(zhì)。
3.如權(quán)利要求1所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述研磨劑顆粒在碳化硅拋光液中的質(zhì)量濃度為0.1～40％wt。
4.如權(quán)利要求1所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述高鐵酸鹽在碳化硅拋光液中的摩爾濃度為0.01M～3M。
5.如權(quán)利要求1所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述高鐵酸鹽在碳化硅拋光液中的摩爾濃度為0.5M～1.5M。
6.如權(quán)利要求1所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述雙氧水在碳化硅拋光液中的摩爾濃度為0.01M～3M。
7.如權(quán)利要求1所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液，其特征在于，所述雙氧水在碳化硅拋光液中的摩爾濃度為0.5M～1.5M。
8.一種如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液的制備方法，其特征在于，所述制備方法的步驟為：稱取固定含量的研磨劑顆粒、高鐵酸鹽和雙氧水，均勻分散在去離子水中，攪拌均勻，采用硝酸調(diào)節(jié)pH值為1～7，得到所述碳化硅拋光液。
9.一種如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的含高鐵酸鹽的碳化硅拋光液的應(yīng)用，其特征在于，所述碳化硅拋光液用于含硅以及含硅化合物晶圓的表面拋光。
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