[發明專利]一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置

在審

• 申請號: 202010566009.4
• 申請日: 2020-06-19
• 公開（公告）號: CN111642051A
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 趙妮;常正實
• 申請（專利權）人: 西安理工大學;西安交通大學
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 楊洲

1.一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，包括等離子體處理裝置、高壓驅動單元、輸氣單元、控制單元；

所述等離子體處理裝置內設有放電氣體室，所述放電氣體室一側設置有氣體通入口，放電氣體室上部接高壓板電極，下部連接地帶孔板電極，所述高壓板電極和接地帶孔板電極組成介質阻擋結構，接地帶孔板電極的孔處安裝有等離子體輸出管，在高壓板電極和接地帶孔板電極靠放電氣體室側均覆蓋絕緣介質；

所述高壓板電極上連接有高壓驅動單元，所述氣體通入口連接輸氣單元，所述輸氣單元、高壓驅動單元和等離子體處理裝置分別與控制單元連接，所述控制單元控制高壓驅動單元輸出所需電壓，控制單元控制輸氣單元輸出的氣體流量，控制單元控制等離子體處理裝置的參數設置。

2.根據權利要求1所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述介質阻擋結構為板-板型，所述高壓板電極為平板。

3.根據權利要求1所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述介質阻擋結構為針-板型，所述高壓板電極帶有陣列針電極，所述針電極直徑為0.5mm-3mm，全長為5mm，針尖曲率半徑為10um-50um，針電極覆蓋阻擋介質或不覆蓋阻擋介質。

4.根據權利要求1所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述接地帶孔板電極上孔的直徑為0.5mm-1.0mm，孔間距1cm。

5.根據權利要求1所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述等離子體輸出管的直徑為0.5mm-1.0mm，長度為1mm-10mm可調，等離子輸出管為絕緣介質或金屬管。

6.根據權利要求3所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述針電極和接地帶孔板電極的孔呈一一對應的共軸布置，針電極和接地帶孔板電極的凈間距為0.5mm-5mm。

7.據權利要求1利要求所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述放電氣體室直徑大小可調，最小為單孔結構，放電氣體室直徑不小于2mm，內部的凈高度為0.5mm-5mm。

8.根據權利要求1所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述等離子體處理裝置形狀為圓形、橢圓形或方形。

9.根據權利要求1-3任一權利要求所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述高壓板電極和接地帶孔板電極上覆蓋的絕緣介質選擇聚四氟乙烯、陶瓷、玻璃。

10.根據權利要求1所述的一種用于材料表面處理的陣列式等離子體裝置，其特征在于，所述高壓驅動單元的電壓幅值0-100kV可調，頻率0.1Hz-100kHz可調，高壓驅動單元尺寸不大于10cm*5cm*5cm，可利用干電池或移動電源或市電供電，所述輸氣單元通過控制單元可調節氣體流量和氣體混合比例，氣體流量在0.5slm-10slm。